摘要 | 第1-12页 |
Abstract | 第12-14页 |
第一章 绪论 | 第14-46页 |
·引言 | 第14-15页 |
·光催化分解水制氢途径 | 第15-17页 |
·光化学电池 | 第15-16页 |
·光助络合催化 | 第16页 |
·半导体光催化 | 第16-17页 |
·半导体光催化反应 | 第17-19页 |
·半导体的能带结构 | 第17-18页 |
·半导体光催化原理 | 第18-19页 |
·半导体光催化分解水制氢 | 第19-22页 |
·光解水制氢原理 | 第19-21页 |
·光解水制氢效率影响因素 | 第21-22页 |
·光解水制氢催化剂及其改性方法 | 第22-36页 |
·传统光催化剂TiO_2 | 第22-24页 |
·介孔TiO_2合成方法及合成机理 | 第24-26页 |
·合成介孔TiO_2的模板剂 | 第26-29页 |
·介孔TiO_2材料合成中存在的问题 | 第29-30页 |
·新型光催化剂钙钛矿型催化剂 | 第30-32页 |
·钙钛矿型催化剂合成方法 | 第32-36页 |
·高温固相反应法 | 第32页 |
·水热法 | 第32页 |
·化学共沉淀法 | 第32-33页 |
·前驱物分解法 | 第33页 |
·溶胶-凝胶法 | 第33页 |
·Pechini-type方法 | 第33-36页 |
·聚合合成法(PCM) | 第36页 |
·本论文选题依据与实验方案 | 第36-40页 |
·选题依据 | 第36-39页 |
·介孔TiO_2选题依据和实验设计思路 | 第37页 |
·钙钛矿Sr_3Ti_2O_7选题依据和实验设计思路 | 第37-39页 |
·实验方案 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-46页 |
第二章 ωCu/Sr_3Ti_2O_7的合成和活性评价(实验部分) | 第46-52页 |
·试剂和仪器 | 第46-47页 |
·实验所用主要试剂的纯度和生产厂家 | 第46页 |
·实验设备及测试仪器 | 第46-47页 |
·催化剂的制备 | 第47-48页 |
·Sr_3Ti_2O_7的制备 | 第47-48页 |
·ωCu/Sr_3Ti_2O_7的制备 | 第48页 |
·还原后ωCu/Sr_3Ti_2O_7的制备 | 第48页 |
·催化剂的活性评价 | 第48-49页 |
·产物分析计算方法 | 第49-50页 |
·催化剂的表征 | 第50-52页 |
·XRD表征 | 第50页 |
·XPS表征 | 第50页 |
·UV-VIS表征 | 第50-51页 |
·BET表征 | 第51-52页 |
第三章 ωCu/Sr_3Ti_2O_7光解水制氢研究 | 第52-69页 |
·引言 | 第52-55页 |
·催化剂制备参数的优化及活性评价 | 第55-61页 |
·不同Cu负载量的Sr_3Ti_2O_7的催化产氢速率测试结果 | 第55-57页 |
·1.5%Cu/Sr_3Ti_2O_7还原前后的催化产氢速率测试结果 | 第57-59页 |
·钙钛矿Sr_3Ti_2O_7上负载Cu、Ag催化性能比较 | 第59-61页 |
·催化剂的结构和性质 | 第61-66页 |
·晶相结构和比表面积 | 第61-62页 |
·X-射线光电子能谱 | 第62-65页 |
·UV—VIS漫反射光谱 | 第65-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-69页 |
第四章 介孔TiO_2材料的制备和表征(实验部分) | 第69-74页 |
·试剂和仪器 | 第69-70页 |
·实验所用主要试剂的纯度和生产厂家 | 第69页 |
·实验设备及测试仪器 | 第69-70页 |
·催化剂的制备 | 第70-72页 |
·未经煅烧La_2O_3/TiO_2的制备 | 第70页 |
·经过煅烧La_2O_3/TiO_2的制备 | 第70-72页 |
·催化剂的表征 | 第72-74页 |
·XRD表征 | 第72页 |
·透射电镜(TEM和HRTEM)表征 | 第72页 |
·BET表征 | 第72-73页 |
·红外表征 | 第73-74页 |
第五章 介孔锐钛矿相TiO_2材料的制备与结构分析 | 第74-88页 |
·引言 | 第74-77页 |
·纳米介孔材料 | 第74页 |
·非硅基介孔材料 | 第74-75页 |
·介孔TiO_2研究现状 | 第75-77页 |
·催化剂的结构和性质 | 第77-85页 |
·晶相结构 | 第77-79页 |
·比表面积 | 第79-82页 |
·红外测试 | 第82-83页 |
·高分辨透射电镜 | 第83-85页 |
·本章小结 | 第85-86页 |
参考文献 | 第86-88页 |
第六章 结论 | 第88-90页 |
硕士在学期间发表的论文 | 第90-91页 |
致谢 | 第91页 |