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薄硅片材料的激光弯曲试验研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
1 绪论第10-19页
   ·激光弯曲技术简介第10-13页
   ·脆性材料激光弯曲研究进展第13-17页
     ·加工激光器种类第13-14页
     ·激光能量对弯曲角度的影响第14-15页
     ·扫描次数对弯曲角度的影响第15页
     ·扫描速度对弯曲角度的影响第15-16页
     ·扫描线间距对弯曲角度的影响第16-17页
     ·激光模式对弯曲的影响第17页
     ·数值模拟进展第17页
   ·本课题主要任务第17-19页
2 薄硅片激光弯曲试验第19-30页
   ·试验条件第19-21页
     ·激光加工设备以及数控系统第19-20页
     ·硅片材料特点与制备第20-21页
   ·试验方案制定第21-22页
     ·激光工艺参数的选择第21页
     ·能量阈值的选择第21-22页
     ·弯曲角度的测量第22页
   ·激光加工参数对弯曲角度的影响第22-27页
     ·脉冲宽度对弯曲角度的影响第22-23页
     ·频率对弯曲角度的影响第23-24页
     ·脉冲占空比对弯曲角度的影响第24-25页
     ·扫描次数与弯曲角度的关系第25-26页
     ·材料宽度对弯曲的影响第26-27页
   ·弯曲角度退化性试验第27-28页
   ·样品展示第28-29页
   ·本章小结第29-30页
3 弯曲样品检测与分析第30-42页
   ·检测手段简介第30-35页
     ·光学显微镜第30-31页
     ·扫描电镜(SEM)第31-32页
     ·激光拉曼光谱第32-33页
     ·X射线晶面定向第33-35页
   ·检测与分析第35-40页
     ·表面形貌检测与分析第35-38页
     ·光谱检测与分析第38-40页
   ·本章小结第40-42页
4 薄硅片激光弯曲温度机制模拟分析第42-54页
   ·激光弯曲机制概述第42-44页
     ·温度梯度机制第42页
     ·翘曲机制第42-43页
     ·增厚机制第43-44页
   ·模拟计算方法概述第44-47页
     ·基于温度场分析的热力学模型第44页
     ·热流密度的计算第44-45页
     ·热物性参数的确定第45-46页
     ·Ansys基本算法简介第46-47页
   ·计算结果分析第47-52页
     ·单次扫描结果与分析第47-49页
     ·多次连续扫描结果与分析第49-51页
     ·不同参数条件下扫描结果比较与分析第51-52页
   ·本章小结第52-54页
5 位错与弯曲成形的关系第54-58页
   ·位错理论介绍第54-55页
     ·位错与温度的关系第54-55页
     ·位错与塑性变形的关系第55页
   ·温度梯度对位错的影响第55-56页
   ·位错对弯曲成形的影响第56-57页
   ·本章小结第57-58页
结论第58-60页
参考文献第60-63页
附录A 部分Ansys APDL程序第63-64页
附录B Newton插值法Matlab程序第64-65页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第65-66页
致谢第66-67页

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