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铝镁硅合金时效强化机理的价电子理论研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
1. 绪论第8-18页
   ·选题意义第8-9页
   ·国内外研究现状第9-11页
   ·研究的理论基础第11-17页
     ·余氏理论(EET)和键距差法(BLD)第11-14页
     ·程氏理论(改进的TFD 理论)第14-16页
     ·合金电子理论第16-17页
   ·本论文的主要研究内容第17-18页
2 Al-Mg-Si 合金过饱和固溶体和 GP 区的相结构计算第18-34页
   ·引言第18页
   ·Al-Mg-Si 合金过饱和固溶体及GP 区中的相第18-19页
   ·Al-Mg-Si 合金过饱和固溶体和GP 区中相结构因子n_A 的计算第19-32页
     ·α-Al 结构单元中相结构因子n_A 的计算第19-21页
     ·α-Al-Si 结构单元中相结构因子n_A 的计算第21-23页
     ·α-Al-Mg 相结构单元中相结构因子n_A 的计算第23-25页
     ·α-Al-Mg-Si 结构单元中相结构因子n_A 的计算第25-28页
     ·GP 区结构单元中相结构因子n_A 的计算第28-32页
   ·本章小结第32-34页
3 Al-Mg-Si 合金过饱和固溶体及 GP 区相界面电子结构的计算第34-44页
   ·引言第34页
   ·Al-Mg-Si 合金时效强化中过饱和固溶体中及GP 区的界面第34-35页
   ·Al-Mg-Si 合金过饱和固溶体和GP 区中界面结合因子的计算第35-42页
     ·α-Al/α-Al-Si 相界面上界面结合因子的计算第35-37页
     ·α-Al/α-Al-Mg 相界面上界面结合因子的计算第37-38页
     ·α-Al/α-Al-Mg-Si 相界面上界面结合因子的计算第38-40页
     ·α-Al /GP 区相界面上界面结合因子的计算第40-42页
   ·本章小结第42-44页
4 Al-Mg-Si 合金中稳定相 Mg_2Si 相及相界面电子结构的计算第44-51页
   ·引言第44页
   ·Al-Mg-Si 合金中稳定相Mg_2Si 相的相结构因子n_A 的计算第44-47页
     ·Mg_2Si 晶胞实验键距的计算第44-45页
     ·Mg_2Si 晶胞等同键数的计算第45页
     ·Mg_2Si 相的键距方程和r_α′方程的建立第45-46页
     ·n_A 方程第46页
     ·理论键距和键距差第46-47页
   ·Mg_2Si 相的界面结合因子的计算第47-49页
     ·α-Al 相(100)面的电子结构第47-48页
     ·Mg_2Si 相(100)面的电子结构第48页
     ·α-Al/Mg_2Si 相界面上的电子结构第48-49页
   ·本章小结第49-51页
5 Al-Mg-Si 合金过渡相β′相及相界面电子结构的计算第51-57页
   ·引言第51页
   ·过渡相β′相的相结构因子n_A 的计算第51-56页
     ·β′晶胞实验键距的计算第52页
     ·β′晶胞等同键数的计算第52-53页
     ·β′相的键距方程和r_α′方程的建立第53-54页
     ·n_A 方程第54页
     ·理论键距和键距差第54-56页
   ·本章小结第56-57页
6 结论第57-58页
参考文献第58-64页
攻读硕士期间发表的学术论文第64-65页
致谢第65页

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