| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-15页 |
| ·声表面波技术与声表面波器件发展史及发展趋势 | 第9-11页 |
| ·声表面波滤波器结构原理 | 第11-12页 |
| ·多层结构高频SAWF器基底金刚石及压电薄膜材料的制备 | 第12-13页 |
| ·多层膜SAWF的模拟 | 第13-14页 |
| ·国内外研究现状 | 第14页 |
| ·本文的立项依据和主要工作 | 第14-15页 |
| 第二章SAWF基底金刚石的制备 | 第15-41页 |
| ·金刚石膜的制备方法及应用 | 第15-20页 |
| ·力学性能与在声表面波器件中的应用 | 第15页 |
| ·热学性能与在声表面波器件中的应用 | 第15-16页 |
| ·光学性能与应用 | 第16页 |
| ·金刚石膜化学汽相沉积方法 | 第16-20页 |
| ·金刚石膜现有CVD 工艺综合分析 | 第20页 |
| ·结束语 | 第20页 |
| ·SAWF基底用的金刚石的制备 | 第20-40页 |
| ·SAWF基底用金刚石的特性要求 | 第20-21页 |
| ·直流电弧等离子体喷射CVD金刚石膜的原理及实验步骤 | 第21-24页 |
| ·直流等离子体喷射法生长金刚石膜缺陷 | 第24-26页 |
| ·形核面的缺陷 | 第25页 |
| ·金刚石膜的裂纹 | 第25-26页 |
| ·直流等离子体喷射法不同工艺参数的比较 | 第26-40页 |
| ·不同温度条件下生长金刚石膜性能比较 | 第27-29页 |
| ·不同碳源条件下比较生长金刚石膜性能 | 第29-31页 |
| ·不同钼台衬底条件下所成薄膜背面的比较 | 第31-32页 |
| ·不同工艺参数条件下的喇曼谱测试分析 | 第32-36页 |
| ·不同参数条件下的X 射线测试分析 | 第36-38页 |
| ·抛光后的金刚石薄膜SEM图及Raman测试 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 声波在栅阵中传播特性的分析方法 | 第41-55页 |
| ·概述 | 第41页 |
| ·SAW术语解释 | 第41-42页 |
| ·金属栅中的BLΦTEKJAR理论及其推广 | 第42-50页 |
| ·单电极栅的BlΦtekjar理论 | 第42-45页 |
| ·斜向传播的Wagner理论 | 第45-46页 |
| ·双电极及多电极栅阵的Aoki理论 | 第46-50页 |
| ·栅阵中的声波激励与传播 | 第50-54页 |
| ·栅阵的有效介电常数 | 第50-52页 |
| ·离散格林函数计算 | 第52-53页 |
| ·δ函数模型 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 有限元法分析金属栅的方法 | 第55-60页 |
| ·有限元法简介 | 第55-56页 |
| ·有限元分析过程 | 第56页 |
| ·有限元法金属栅的分析方法 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 展望 | 第60-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 发表论文及参与科研 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |