| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·铌酸锂研究的历史背景、应用现状及应用前景 | 第8-11页 |
| ·铌酸锂的基本特性 | 第11-14页 |
| ·铌酸锂薄膜的制备方法及研究现状 | 第14-16页 |
| ·铌酸锂薄膜制备面临的问题 | 第16-17页 |
| ·薄膜材料的表征方法 | 第17-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 LiNbO_3和Li3NbO_4复合相陶瓷靶材的制备 | 第21-29页 |
| ·实验过程 | 第21-22页 |
| ·烧结温度对烧结产物的影响 | 第22-24页 |
| ·不同反应物配比对烧结产物的影响 | 第24-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 溅射技术在薄膜制备中的应用 | 第29-36页 |
| ·溅射技术发展历程 | 第29页 |
| ·溅射的特性 | 第29-30页 |
| ·溅射原理及薄膜形成过程 | 第30-32页 |
| ·溅射方法概述 | 第32-33页 |
| ·射频溅射装置 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 循环间歇射频溅射法制备铌酸锂薄膜 | 第36-52页 |
| ·实验过程 | 第36-37页 |
| ·衬底温度对铌酸锂薄膜成膜的影响 | 第37-41页 |
| ·气体比例对铌酸锂薄膜成膜的影响 | 第41-43页 |
| ·溅射气压对铌酸锂薄膜成膜的影响 | 第43-45页 |
| ·缓冲层对铌酸锂薄膜成膜的影响 | 第45-48页 |
| ·铌酸锂薄膜的表征 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第52-54页 |
| ·全文总结 | 第52-53页 |
| ·下一步应开展的工作与前景展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60页 |
| 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |