| 第一章 绪论 | 第1-13页 |
| ·经典光催化原理 | 第8-10页 |
| ·光敏剂光敏化原理 | 第10页 |
| ·主要的光催化技术和催化剂制备技术选介 | 第10-13页 |
| ·纳米材料光催化剂 | 第10页 |
| ·染料光敏化 | 第10-11页 |
| ·离子掺杂 | 第11-12页 |
| ·新型窄禁带半导体光催化剂 | 第12-13页 |
| 第二章 实验部分 | 第13-18页 |
| ·实验试剂和主要设备 | 第13页 |
| ·催化剂的主要表征手段 | 第13-14页 |
| ·紫外光谱扫描(DRS) | 第13-14页 |
| ·多晶X射线衍射(XRD) | 第14页 |
| ·傅里叶变换激光拉曼光谱(FT-LRS) | 第14页 |
| ·催化剂的制备 | 第14页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第14-15页 |
| ·模型化合物甲基橙的理化性质和紫外-可见光谱图 | 第15-18页 |
| 第三章 MoO_3的光催化降解模型化合物甲基橙的动力学 | 第18-26页 |
| ·MoO_3的光催化降解动力学 | 第18-20页 |
| ·WO_3的催化降解动力学对比 | 第20-22页 |
| ·MoO_3与WO_3的晶相结构(XRD)与能带结构(DRS)的对比 | 第22-25页 |
| 本章小结 | 第25-26页 |
| 第四章 MoO_3光催化降解工艺条件的考察 | 第26-37页 |
| ·O_2的添加 | 第26页 |
| ·催化剂的用量 | 第26-27页 |
| ·焙烧温度与催化剂活性之间的关系 | 第27-30页 |
| ·MoO_3的相变温度和体相结构分析(LRS分析) | 第30-32页 |
| ·反应中pH值变化 | 第32-33页 |
| ·光照时间与甲基橙脱色率的关系 | 第33-36页 |
| 本章小结 | 第36-37页 |
| 第五章 MoO_3-丙酮光催化-光敏化体系的研究 | 第37-44页 |
| ·MoO_3的丙酮光敏化均相体系的研究 | 第37-42页 |
| ·丙酮对甲基橙的光敏化降解过程 | 第37-38页 |
| ·丙酮导致的甲基橙紫外-可见光谱的紫移 | 第38-39页 |
| ·丙酮光敏化强化的MoO_3光催化氧化甲基橙 | 第39-41页 |
| ·反应中pH值的变化的对比 | 第41-42页 |
| ·丙酮负载多相化的DRS研究 | 第42-43页 |
| 本章小结 | 第43-44页 |
| 第六章 MoO_3-二苯甲酮多相催化剂系统的研究 | 第44-52页 |
| ·不同负载比例的BPH-MoO_3催化剂的活性 | 第44页 |
| ·不同负载比例的BPH-MoO_3催化剂的DRS谱图解析 | 第44-45页 |
| ·不同负载比例的BPH-MoO_3催化剂的LRS谱图解析 | 第45-51页 |
| 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 附录 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 攻读学位期间发表文章目录 | 第59页 |
