中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-7页 |
目录 | 第7-10页 |
第一章 引言 | 第10-29页 |
·ZnO材料的基本性质及应用 | 第11-13页 |
·ZnO材料的研究热点及进展 | 第13-23页 |
·p型ZnO的研究进展 | 第14-19页 |
·氧化锌低维结构的研究 | 第19-20页 |
·氧化锌器件的研究 | 第20-23页 |
·氧化锌薄膜研究存在的问题和发展趋势 | 第23-24页 |
·论文的选题依据和研究内容 | 第24-25页 |
参考文献 | 第25-29页 |
第二章 等离子体增强化学气相沉积方法及ZnO:N材料的表征手段 | 第29-46页 |
·等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备介绍 | 第29-31页 |
·平行圆板形PECVD沉积工艺设备 | 第29-31页 |
·扩散炉形等离子体化学汽相沉积设备 | 第31页 |
·热氧化退火设备 | 第31-32页 |
·样品的分析和表征手段 | 第32-44页 |
·X射线衍射谱(XRD) | 第33-34页 |
·场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第34-35页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第35-37页 |
·X-射线光电子能谱(XPS) | 第37-39页 |
·晶体的透射和吸收谱 | 第39-40页 |
·拉曼光谱 | 第40-41页 |
·微区光致发光光谱(PL) | 第41-42页 |
·电学性质测量方法—霍尔效应及其与温度的依赖关系 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-46页 |
第三章 热氧化氮氧锌薄膜制备p型氧化锌 | 第46-65页 |
·热氧化PECVD制备的氮氧锌薄膜获得p型氧化锌 | 第47-48页 |
·热氧化诱导实现氧化锌转型的过程 | 第48-61页 |
·样品的霍尔系数测量 | 第48-49页 |
·样品的结构和形貌分析 | 第49-52页 |
·样品的化学成分分析 | 第52-55页 |
·样品的拉曼光谱分析 | 第55-58页 |
·样品的光学性质分析 | 第58-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
第四章 p型氧化锌薄膜电学性质和光学特性研究 | 第65-82页 |
·p型氧化锌样品的制备和表征 | 第65-66页 |
·p型氧化锌薄膜的电学性质 | 第66-78页 |
·影响p型氧化锌空穴迁移率的散射机制 | 第66-73页 |
·p型氧化锌霍尔迁移率随温度的变化 | 第73-75页 |
·p型氧化锌氮受主的热离化能 | 第75-77页 |
·p型氧化锌电阻率随温度的变化 | 第77-78页 |
·p型氧化锌薄膜的光学性质 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-82页 |
第五章 光辐照条件下p型氧化锌薄膜稳定性研究 | 第82-93页 |
·引言 | 第82-85页 |
·光辐照对p型ZnO薄膜的电学性质的影响 | 第85-90页 |
·p型ZnO薄膜中的持久n型光电导 | 第85-87页 |
·表面(或界面)态对p型ZnO薄膜电学性质影响 | 第87-90页 |
·本章小结 | 第90-91页 |
参考文献 | 第91-93页 |
第六章 结论 | 第93-94页 |
作者简介 | 第94页 |
攻读博士学位期间承担的主要工作及成果 | 第94-96页 |
致谢 | 第96-97页 |