4-三氟乙氧基吡啶的合成
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 1 引言 | 第8-16页 |
| ·课题背景 | 第8-9页 |
| ·4-三氟乙氧基吡啶的研究现状 | 第9-10页 |
| ·4-位吡啶类化合物合成方法及存在的问题 | 第10-15页 |
| ·吡啶的氮氧化 | 第10-11页 |
| ·过氧化物氧化 | 第10-11页 |
| ·高硼酸钠氧化 | 第11页 |
| ·吡啶的4-位取代反应 | 第11-14页 |
| ·吡啶的硝化 | 第11-13页 |
| ·吡啶的三氟乙氧化 | 第13-14页 |
| ·还原反应 | 第14-15页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 2 实验部分 | 第16-26页 |
| ·吡啶-N-氧化物的合成 | 第16页 |
| ·所用药品和主要仪器 | 第16页 |
| ·实验方法 | 第16页 |
| ·4-硝基吡啶-N-氧化物的合成 | 第16-18页 |
| ·所用药品和主要仪器 | 第17页 |
| ·实验方法 | 第17页 |
| ·产品分析 | 第17-18页 |
| ·红外分析 | 第17-18页 |
| ·4-三氟乙氧基吡啶-N-氧化物的合成 | 第18-21页 |
| ·所用药品和主要仪器 | 第18-19页 |
| ·实验方法 | 第19页 |
| ·产品分析 | 第19-21页 |
| ·红外分析 | 第19-20页 |
| ·质谱分析 | 第20页 |
| ·含量分析 | 第20-21页 |
| ·4-三氟乙氧基吡啶的合成 | 第21-26页 |
| ·所用药品和主要仪器 | 第21页 |
| ·实验方法 | 第21-22页 |
| ·产品分析 | 第22-26页 |
| ·红外分析 | 第22页 |
| ·质谱分析 | 第22-23页 |
| ·核磁谱图分析 | 第23-24页 |
| ·含量分析 | 第24-26页 |
| 3 结果分析讨论 | 第26-38页 |
| ·吡啶-N-氧化物的合成 | 第26-28页 |
| ·反应机理 | 第26页 |
| ·结果讨论 | 第26-28页 |
| ·过氧化氢浓度对反应的影响 | 第26-27页 |
| ·原料配比对反应的影响 | 第27-28页 |
| ·温度对反应的影响 | 第28页 |
| ·小结 | 第28页 |
| ·4-硝基吡啶-N-氧化物的合成 | 第28-31页 |
| ·反应机理 | 第28-29页 |
| ·结果讨论 | 第29-31页 |
| ·硝化温度对反应的影响 | 第29-30页 |
| ·硝酸的用量对反应的影响 | 第30页 |
| ·其它因素对反应的影响 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31页 |
| ·4-三氟乙氧基吡啶-N-氧化物的合成 | 第31-35页 |
| ·反应机理 | 第31-32页 |
| ·结果讨论 | 第32-34页 |
| ·碱的用量对反应的影响 | 第32-33页 |
| ·物料配比对反应的影响 | 第33页 |
| ·温度对反应的影响 | 第33-34页 |
| ·时间对反应的影响 | 第34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| ·4-三氟乙氧基吡啶的合成 | 第35-38页 |
| ·反应机理 | 第35页 |
| ·结果讨论 | 第35-36页 |
| ·物料配比对反应的影响 | 第35-36页 |
| ·温度对反应的影响 | 第36页 |
| ·小结 | 第36-38页 |
| 4 结论 | 第38-39页 |
| 致谢 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
