| 第一章 前言 | 第1-11页 |
| §1.1 精密表面缺陷研究概况 | 第6-9页 |
| §1.1.1 精密表面缺陷的表现及危害 | 第6-8页 |
| §1.1.2 精密表面疵病的散射特性和检测发展 | 第8-9页 |
| §1.2 本论文工作的特色 | 第9-11页 |
| 第二章 精密表面缺陷的评价及检测 | 第11-24页 |
| §2.1 国内外疵病评价标准 | 第11-16页 |
| §2.1.1 中国国家标准GB1185-89 | 第11-12页 |
| §2.1.2 英、美、德、法的国家标准 | 第12-13页 |
| §2.1.3 国际标准ISO10110-7 | 第13-15页 |
| §2.1.4 不同用途光学元件的疵病要求 | 第15-16页 |
| §2.2 国内外现有疵病检测方法 | 第16-20页 |
| §2.2.1 光学零件表面疵病的传统检验方法—目视法 | 第17页 |
| §2.2.2 激光衍射图样识别法 | 第17页 |
| §2.2.3 低通滤波成像法 | 第17-18页 |
| §2.2.4 自适应Fourier滤波成像法测量光学元件表面疵病 | 第18-19页 |
| §2.2.5 其他疵病检测方法 | 第19-20页 |
| §2.3 现有疵病检测方法的缺陷与不足分析 | 第20-24页 |
| 第三章 光学表面散射理论 | 第24-42页 |
| §3.1 光学表面散射源 | 第24-25页 |
| §3.2 表面散射光计算方法 | 第25-30页 |
| §3.2.1 几何光学方法 | 第25-26页 |
| §3.2.2 标量散射理论 | 第26-28页 |
| §3.2.3 矢量散射理论 | 第28-29页 |
| §3.2.4 米氏理论 | 第29-30页 |
| §3.3 全积分散射TIS(Total Integrated Scattering，TIS) | 第30-35页 |
| §3.3.1 表面粗糙度散射在TIS中的表现和影响 | 第31-32页 |
| §3.3.2 表面离散型微不规则散射在TIS中的表现和影响 | 第32-33页 |
| §3.3.3 划痕、麻点等宏观疵病在TIS中的表现和影响 | 第33-35页 |
| §3.4 各种表面散射理论的解释对象分析与比较 | 第35-37页 |
| §3.5 精密表面缺陷的光学显微散射理论分析 | 第37-42页 |
| 第四章 精密表面缺陷的光学显微散射成像系统 | 第42-67页 |
| §4.1 精密表面缺陷的光学显微散射成像系统的设计思想 | 第42-43页 |
| §4.2 光源照明系统 | 第43-54页 |
| §4.2.1 光源的选择 | 第44-46页 |
| §4.2.2 光纤光束数量的确定 | 第46-50页 |
| §4.2.3 光源入射角α的确定 | 第50-52页 |
| §4.2.4 系统光源位置对成像质量的影响 | 第52-54页 |
| §4.3 显微成像系统 | 第54-55页 |
| §4.4 平移样品台系统 | 第55-56页 |
| §4.5 图像采集与数字图像处理 | 第56-57页 |
| §4.6 疵病检测标定系统 | 第57-67页 |
| §4.6.1 精密表面疵病的形状特性分析 | 第58-59页 |
| §4.6.2 标准比对板设计 | 第59-63页 |
| §4.6.3 标准比对板的制作工艺 | 第63-67页 |
| 第五章 精密表面的光学显微成像系统的实验结果及标定 | 第67-85页 |
| §5.1 光学显微散射成像系统疵病检测结果分析 | 第67-69页 |
| §5.2 标准比对板中疵病标准设计制作结果分析 | 第69-72页 |
| §5.3 精密表面疵病的光学显微散射成像特性分析 | 第72-78页 |
| §5.4 精密表面疵病检测系统的定标结果分析 | 第78-82页 |
| §5.5 关于光学显微敞射成像系统疵病检测的误差分析 | 第82-85页 |
| 第六章 总结与展望 | 第85-88页 |
| §6.1 论文工作的总结 | 第85页 |
| §6.2 精密表面缺陷检测的改进意见 | 第85-88页 |
| 硕士在读期间已发表论文 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
