| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 1 引言 | 第7-8页 |
| 2 历史资料 | 第8-14页 |
| ·Gd-Ge二元系 | 第8-10页 |
| ·Gd-Si二元系 | 第10-11页 |
| ·Ge-Si二元系 | 第11-13页 |
| ·Gd-Ge-Si三元系 | 第13-14页 |
| 3.实验原理和方法 | 第14-34页 |
| ·试样的制备 | 第14-15页 |
| ·配料和熔炼 | 第14-15页 |
| ·合金试样的均匀化热处理 | 第15页 |
| ·粉末试样的制备 | 第15页 |
| ·金相试样的制备 | 第15页 |
| ·X射线衍射法 | 第15-18页 |
| ·衍射仪的基本原理与构造 | 第16-17页 |
| ·实验条件的选择 | 第17-18页 |
| ·差热分析法(DTA) | 第18-20页 |
| ·金相分析法 | 第20-21页 |
| ·电镜法 | 第21-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第21-22页 |
| ·能谱分析(EDAX) | 第22-23页 |
| ·相界的测定 | 第23-25页 |
| ·相消失法 | 第23-24页 |
| ·点阵常数法 | 第24-25页 |
| ·X射线粉末衍射谱的指标化 | 第25-30页 |
| ·比值法 | 第25-26页 |
| ·分析法 | 第26-27页 |
| ·图解法 | 第27-29页 |
| ·计算机尝试法 | 第29页 |
| ·指标化结果正确性判据 | 第29-30页 |
| ·晶体点阵常数的精确测定 | 第30-34页 |
| ·内标法 | 第30-31页 |
| ·图形外推法 | 第31页 |
| ·最小二乘法 | 第31-34页 |
| 4 实验结果和讨论 | 第34-42页 |
| ·相分析 | 第34页 |
| ·Gd-Ge-Si三元系富Gd合金900℃等温截面 | 第34-36页 |
| ·固溶度的测定 | 第36页 |
| ·关于三相区的确定 | 第36-39页 |
| ·关于Gd5(Gel-xSix)4，Gd5Ge4和Gd5Si4的讨论 | 第39-40页 |
| ·合金试样制备过程的几个细节讨论 | 第40-42页 |
| ·熔炼炉中的充氩 | 第40页 |
| ·磁场的作用、以及电子极的影响 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 攻读硕士期间已发表和待发表的论文 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
| 附表1 合金成分与相组成 | 第46-47页 |
| 附图：样品的X射线衍射图谱 | 第47-63页 |