模板法制备钴、镍磁性纳米线
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-31页 |
| ·序言 | 第10页 |
| ·纳米材料的发展历史和特性 | 第10-16页 |
| ·纳米材料的发展历史 | 第11-12页 |
| ·纳米材料的奇异特性和效应 | 第12-16页 |
| ·纳米材料分类 | 第16-17页 |
| ·纳米材料的发展趋势和热点方向 | 第17-21页 |
| ·纳米材料研究的特点 | 第18页 |
| ·纳米材料的发展趋势 | 第18-19页 |
| ·准一维纳米材料 | 第19-21页 |
| ·纳米阵列组装体系 | 第21-24页 |
| ·纳米结构自组装体系 | 第22-23页 |
| ·纳米人工组装体系 | 第23-24页 |
| ·氧化铝模板合成纳米阵列 | 第24-30页 |
| ·模板合成法 | 第24-26页 |
| ·多孔氧化铝模板制备阵列体系的方法 | 第26-28页 |
| ·多孔氧化铝模板的特性和应用 | 第28-30页 |
| ·本论文的选题意义和研究内容 | 第30-31页 |
| 第2章 实验方法 | 第31-38页 |
| ·氧化铝模板的制备 | 第31-33页 |
| ·电沉积制备镍纳米线 | 第33页 |
| ·电沉积制备钴纳米线 | 第33-35页 |
| ·X 射线分析 | 第35页 |
| ·氧化铝模板的X 射线分析 | 第35页 |
| ·镍纳米线的X 射线分析 | 第35页 |
| ·钴纳米线的X 射线分析 | 第35页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第35-36页 |
| ·透射电镜分析 | 第36-37页 |
| ·氧化铝模板的透射电镜分析 | 第36页 |
| ·镍纳米线的透射电镜分析 | 第36页 |
| ·钴纳米线的透射电镜分析 | 第36-37页 |
| ·磁性能测量 | 第37-38页 |
| ·镍纳米线的磁滞回线 | 第37页 |
| ·钴纳米线的磁滞回线 | 第37-38页 |
| 第3章 实验结果与分析 | 第38-54页 |
| ·双通的氧化铝模板分析 | 第38-42页 |
| ·氧化铝模板的X 射线分析 | 第38页 |
| ·氧化铝模板的TEM 分析 | 第38-40页 |
| ·氧化铝模板的AFM 分析 | 第40-42页 |
| ·镍纳米线的分析 | 第42-47页 |
| ·镍纳米线的X 射线分析 | 第42-43页 |
| ·镍纳米线的透射电镜分析 | 第43-46页 |
| ·镍纳米线有序阵列的磁学性能 | 第46-47页 |
| ·钴纳米线分析 | 第47-52页 |
| ·钴纳米线的X 射线分析 | 第47-48页 |
| ·钴纳米线的TEM 图 | 第48-51页 |
| ·钴纳米线的能量损失谱 | 第51页 |
| ·钴纳米线的磁学性能 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 讨论 | 第54-67页 |
| ·多孔氧化铝模板的生长机理 | 第54-60页 |
| ·模板的生长过程与结构 | 第54-55页 |
| ·模板孔径的影响因素 | 第55-58页 |
| ·生长机制 | 第58-60页 |
| ·纳米线生长的影响因素 | 第60-63页 |
| ·纳米线直径和阳极氧化电压的关系 | 第60-61页 |
| ·纳米线直径和氧化铝模板制备温度的关系 | 第61-62页 |
| ·纳米线的生长时间与沉积电压的关系 | 第62-63页 |
| ·纳米线的长度和沉积时间的关系 | 第63页 |
| ·纳米线形状和晶粒对磁性能的影响 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 作者简介 | 第75页 |
