| 中文摘要 | 第1-8页 |
| 英文摘要 | 第8-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-15页 |
| §1．1 磁存储中的重要参量 | 第9-10页 |
| §1．2 磁存储材料简介 | 第10-13页 |
| §1．2．1 磁存储材料的分类 | 第10-11页 |
| §1．2．2 纵向磁化薄膜存储介质的发展及研究现状 | 第11-13页 |
| §1．3 本文研究的目的 | 第13-14页 |
| 参考文献 | 第14-15页 |
| 第二章 薄膜样品的制备及测量 | 第15-24页 |
| §2．1 引言 | 第15-19页 |
| §2．1．1 磁控溅射的原理 | 第15-16页 |
| §2．1．2 磁控溅射的特点 | 第16-18页 |
| §2．1．3 样品的制备 | 第18-19页 |
| §2．2 薄膜样品的测试及测试原理 | 第19-23页 |
| §2．2．1 薄膜厚度的测量技术 | 第19-20页 |
| §2．2．2 结构分析 | 第20-21页 |
| §2．2．3 磁性测量 | 第21-22页 |
| §2．2．4 成份分析 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-24页 |
| 第三章 薄膜的生长、溅射态薄膜和热处理后的薄膜 | 第24-31页 |
| §3．1 薄膜的生长过程 | 第24-25页 |
| §3．2 溅射态薄膜的形貌 | 第25-27页 |
| §3．3 热处理后的薄膜 | 第27-29页 |
| §3．3．1 热处理条件 | 第27页 |
| §3．3．2 薄膜的形貌 | 第27-29页 |
| §3．4 小结 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第四章 热处理前后样品的结构和磁性的比较 | 第31-40页 |
| §4．1 薄膜的结构 | 第31-35页 |
| §4．1．1 TEM德拜环 | 第31-32页 |
| §4．1．2 XRD分析 | 第32-35页 |
| §4．2 薄膜的磁性 | 第35-37页 |
| §4．2．1 溅射态薄膜的磁性 | 第35-36页 |
| §4．2．2 热处理薄膜的磁性 | 第36-37页 |
| §4．3 小结 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第五章 影响磁性的因素及其机理 | 第40-52页 |
| §5．1 矫顽力的影响因素 | 第40-42页 |
| §5．1．1 晶粒之间的长程静磁相互作用 | 第40-41页 |
| §5．1．2 近邻晶粒之间的交换耦合相互作用 | 第41-42页 |
| §5．2 热处理温度对磁性的影响 | 第42-44页 |
| §5．3 热处理时间对磁性的影响 | 第44-45页 |
| §5．4 成分变化对磁性的影响 | 第45-48页 |
| §5．5 厚度的变化对磁性的影响 | 第48-49页 |
| §5．6 溅射气压对磁性的影响 | 第49-50页 |
| §5．7 小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |