| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 信息显示技术与场发射显示 | 第9-31页 |
| §1．1 信息显示技术概述 | 第9-12页 |
| §1．2 发射型平板显示 | 第12-26页 |
| §1．3 场发射显示技术研究的意义 | 第26-28页 |
| §1．4 显示技术的应用市场分析 | 第28-29页 |
| §1．5 本论文的选题与研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 场发射理论与材料 | 第31-46页 |
| §2．1 Fowler-Nordheim理论 | 第31-35页 |
| §2．2 微尖结构的场增强效应 | 第35-38页 |
| §2．3 冷阴极场发射材料 | 第38-46页 |
| 第三章 大面积硅微尖冷阴极阵列及其场发射特性研究 | 第46-67页 |
| §3．1 硅微尖冷阴极阵列结构设计 | 第46-54页 |
| §3．2 硅微尖冷阴极阵列的制备研究 | 第54-62页 |
| §3．3 硅微尖场发射特性研究 | 第62-63页 |
| §3．4 金属Mo表面修饰的硅微尖场发射研究 | 第63-65页 |
| §3．5 小结 | 第65-67页 |
| 第四章 籽晶预沉积金刚石薄膜场发射研究 | 第67-83页 |
| §4．1 金刚石薄膜的场发射 | 第67-68页 |
| §4．2 籽晶预沉积金刚石薄膜的热丝CVD制备 | 第68-75页 |
| §4．3 籽晶预沉积金刚石薄膜的表征与场发射 | 第75-77页 |
| §4．4 籽晶预沉积金刚石薄膜场发射研究 | 第77-80页 |
| §4．5 小结 | 第80-83页 |
| 第五章 碳纳米管场发射与冷阴极印刷制备研究 | 第83-101页 |
| §5．1 碳纳米管的结构与基本属性 | 第83-87页 |
| §5．2 碳纳米管的合成 | 第87-89页 |
| §5．3 碳纳米管场发射机制 | 第89页 |
| §5．4 碳纳米管冷阴极电子源 | 第89-91页 |
| §5．5 碳纳米管场发射冷阴极的大面积印刷制备研究 | 第91-98页 |
| §5．6 小结 | 第98-101页 |
| 第六章 碳纳米管场发射动态显示器件研究 | 第101-116页 |
| §6．1 碳纳米管场发射显示技术研究进展 | 第101-102页 |
| §6．2 碳纳米管场发射显示器件结构设计 | 第102-104页 |
| §6．3 碳纳米管冷阴极的印刷制备 | 第104-106页 |
| §6．4 阳极荧光屏的结构设计与发光特性研究 | 第106-107页 |
| §6．5 场发射显示器驱动技术研究 | 第107-110页 |
| §6．6 碳纳米管场发射动态显示器件研究 | 第110-113页 |
| §6．7 小结 | 第113-116页 |
| 第七章 结论 | 第116-118页 |
| 博士期间的科研活动及发表论文专利 | 第118-120页 |
| 致谢 | 第120页 |