超光滑表面磁流变加工原理与实验研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第6-11页 |
| §1．1 课题来源及意义 | 第6-7页 |
| §1．2 国内外磁流液研抛技术的发展状况 | 第7-9页 |
| §1．3 磁流体的应用 | 第9页 |
| §1．4 主要研究内容 | 第9-11页 |
| 第2章 磁流变研抛加工特性 | 第11-22页 |
| §2．1 磁流液的成分和性能 | 第11-13页 |
| §2．2 影响研抛性能的磁流液物理特性分析 | 第13-17页 |
| §2．3 磁流液的静力学和动力学分析 | 第17-21页 |
| §2．3．1 磁流变研抛技术的产生 | 第17-18页 |
| §2．3．2 磁流变静力学分析 | 第18-20页 |
| §2．3．3 磁流体动力学及流变性分析 | 第20-21页 |
| §2．4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 磁流变研抛装置的结构设计 | 第22-30页 |
| §3．1 模块化设计思想 | 第22页 |
| §3．2 磁流变研抛装置的设计思想和总体结构设计 | 第22-24页 |
| §3．3 抛光装置各模块的结构设计 | 第24-29页 |
| §3．3．1 可调节磁场装置的设计 | 第24-26页 |
| §3．3．2 装夹装置设计 | 第26-27页 |
| §3．3．3 磁流液循环装置 | 第27-28页 |
| §3．3．4 磁流液存储装置 | 第28-29页 |
| §3．4 本章小节 | 第29-30页 |
| 第4章 磁流液抛光机理和微观分析 | 第30-41页 |
| §4．1 玻璃表面的抛光机理及传统抛光方法 | 第30-35页 |
| §4．1．1 玻璃表面的抛光机理 | 第30-33页 |
| §4．1．2 传统的抛光方法 | 第33-35页 |
| §4．2 磁流变抛光机理 | 第35-38页 |
| §4．2．1 磁流变抛光的工作原理 | 第35页 |
| §4．2．2 磁流变抛光的数学模型 | 第35-37页 |
| §4．2．3 磁流变研抛的机理和特点 | 第37-38页 |
| §4．3 磁流液在磁场中的微观分析 | 第38-39页 |
| §4．4 磁流变研抛的影响因素 | 第39-40页 |
| §4．4．1 磁场对磁流变研抛性能的影响 | 第39-40页 |
| §4．4．2 抛光粉硬度对磁流液抛光性能的影响 | 第40页 |
| §4．5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第5章 磁流变研抛工艺实验 | 第41-51页 |
| §5．1 研抛实验条件 | 第41-44页 |
| §5．1．1 数控平台 | 第41-42页 |
| §5．1．2 实验装置结构参数的选择 | 第42-43页 |
| §5．1．3 磁流变研抛工艺参数的选择 | 第43-44页 |
| §5．2 两个重要工艺参数对实验结果的影响 | 第44-48页 |
| §5．2．1 磁场分布 | 第44-46页 |
| §5．2．2 磁流液配方 | 第46-48页 |
| §5．3 典型抛光实验的结果分析 | 第48-49页 |
| §5．3．1 铝片研抛实验 | 第48-49页 |
| §5．3．2 碳化硅材料研抛实验 | 第49页 |
| §5．3．3 实验结果综合评价 | 第49页 |
| §5．4 本章小节 | 第49-51页 |
| 第6章 全文总结 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 附录一 夹具结构设计图1 | 第56-57页 |
| 附录二 夹具结构设计图2 | 第57页 |
