| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-15页 |
| 第一章 前言 | 第15-28页 |
| §1．1 钛合金表面钙磷生物活性涂层的研究现状 | 第15-16页 |
| §1．2 生物活性涂层失效的主要原因 | 第16页 |
| §1．3 目前钙磷生物活性涂层的主要方法及分析 | 第16-23页 |
| §1．3．1 化学沉积法 | 第16-19页 |
| §1．3．1．1 化学处理—溶液诱导沉积法 | 第16-18页 |
| §1．3．1．2 电化学法 | 第18-19页 |
| §1．3．1．3 水热合成法 | 第19页 |
| §1．3．2 物理气相沉积法（PVD） | 第19-20页 |
| §1．3．2．1 离子束辅助沉积（IBAD）法 | 第19页 |
| §1．3．2．2 溅射法 | 第19-20页 |
| §1．3．3 热喷涂法 | 第20-21页 |
| §1．3．3．1 火焰喷涂 | 第20-21页 |
| §1．3．3．2 等离子喷涂 | 第21页 |
| §1．3．3．3 爆炸喷涂和超音速火焰喷涂 | 第21页 |
| §1．3．4 涂覆--烧结法 | 第21-23页 |
| §1．3．4．1 Sol-Gel-烧结法 | 第21-22页 |
| §1．3．4．2 激光熔覆法 | 第22页 |
| §1．3．4．3 电泳沉积—烧结法 | 第22-23页 |
| §1．4 生物活性涂层的发展方向 | 第23-25页 |
| §1．4．1 重视涂层的稳定性问题 | 第23-24页 |
| §1．4．2 重视梯度涂层设计和中间层 | 第24-25页 |
| §1．4．3 适当的涂层厚度和高结晶化 | 第25页 |
| §1．4．4 重视多种涂层及后处理技术的复合 | 第25页 |
| §1．5 本章小结 | 第25-26页 |
| §1．6 论文选题的目的及其主要研究内容 | 第26-28页 |
| §1．6．1 论文选题的来源 | 第26页 |
| §1．6．2 本论文的主要研究目标及内容 | 第26-28页 |
| 第二章 钛合金（Ti6Al4V）表面的化学和物理处理 | 第28-36页 |
| §2．1 研究目的 | 第28页 |
| §2．2 钛合金表面的化学处理 | 第28-30页 |
| §2．2．1 钛合金表面的酸化学处理 | 第28-29页 |
| §2．2．1 钛合金表面的碱化学处理 | 第29-30页 |
| §2．3 钛合金表面高温渗镀纯钛 | 第30-35页 |
| §2．3．1 材料与方法 | 第30-31页 |
| §2．3．2 结果与讨论 | 第31-35页 |
| §2．4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 生物活性梯度涂层的设计及工艺选择 | 第36-45页 |
| §3．1 梯度涂层的设计 | 第36-37页 |
| §3．2 梯度涂层的热应力分析和计算 | 第37-43页 |
| §3．3 梯度涂层的工艺选择 | 第43-44页 |
| §3．4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 生物玻璃和HA的研制及其带电特性研究 | 第45-65页 |
| §4．1 生物玻璃BG的设计和制备 | 第45-52页 |
| §4．2 HA的制备 | 第52-53页 |
| §4．3 HA和BG溶胶体系的初步电沉积试验 | 第53-54页 |
| §4．3．1 BG溶胶体系的初步电沉积试验及分析 | 第53-54页 |
| §4．3．2 HA溶胶体系的初步电沉积试验及分析 | 第54页 |
| §4．4 HA阻对BG颗粒的包覆 | 第54-55页 |
| §4．5 合成HA和HA“包覆”BG粉体的表征 | 第55-59页 |
| §4．5．1 物相分析 | 第55-58页 |
| §4．5．2 HA“包覆”BG颗粒的表面分析 | 第58-59页 |
| §4．6 带电特性及粒度分析 | 第59-64页 |
| §4．7 本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 生物玻璃的结构及生物和化学特性 | 第65-74页 |
| §5．1 生物玻璃BG的结构分析 | 第65-66页 |
| §5．2 生物玻璃BG的化学稳定性试验 | 第66-69页 |
| §5．3 生物玻璃的生物相容性 | 第69-72页 |
| §5．3．1 遗传毒性试验 | 第70页 |
| §5．3．2 体外细胞毒性试验 | 第70-72页 |
| §5．3．3 过敏试验 | 第72页 |
| §5．3．4 溶血试验 | 第72页 |
| §5．4 本章小结 | 第72-74页 |
| 第六章 钛合金／BG／HA生物活性梯度涂层的研究 | 第74-92页 |
| §6．1 电泳沉积的装置及基体的预处理 | 第74-75页 |
| §6．1．1 电泳沉积装置 | 第74页 |
| §6．1．2 钛合金基体表面的预处理 | 第74-75页 |
| §6．2 初步的电泳沉积实验 | 第75-76页 |
| §6．3 电泳沉积工艺及其影响因素 | 第76-82页 |
| §6．3．1 粉浆性能 | 第77-78页 |
| §6．3．2 电极间距 | 第78页 |
| §6．3．3 沉积电压 | 第78-82页 |
| §6．3．4 沉积时间 | 第82页 |
| §6．4 烧结处理 | 第82-88页 |
| §6．4．1 烧结温度的初步确定 | 第83-84页 |
| §6．4．2 烧结气氛的确定 | 第84-88页 |
| §6．4．2．1 真空烧结 | 第84-86页 |
| §6．4．2．2 氩气氛烧结 | 第86-87页 |
| §6．4．2．3 大气烧结 | 第87-88页 |
| §6．5 基体的表面粗糙度与涂层结合强度 | 第88-89页 |
| §6．6 涂层制备工艺参数的确定 | 第89-91页 |
| §6．7 本章小结 | 第91-92页 |
| 第七章 分析与讨论 | 第92-118页 |
| §7．1 涂层的厚度与沉积时间的关系 | 第92-93页 |
| §7．2 涂层的组成与结构分析 | 第93-106页 |
| §7．2．1 烧结前后涂层的表面形貌 | 第93-94页 |
| §7．2．2 涂层的断面分析 | 第94-97页 |
| §7．2．3 涂层的物相和界面分析 | 第97-106页 |
| §7．2．3．1 含Ti玻璃（8~ | 第97-99页 |
| §7．2．3．2 不含Ti玻璃（2~ | 第99-106页 |
| §7．3 影响涂层烧结及结合强度的因素 | 第106-110页 |
| §7．3．1 基体的前处理工艺与烧结的关系 | 第106-108页 |
| §7．3．2 涂层制备工艺与烧结的关系 | 第108-109页 |
| §7．3．3 涂层与基体的界面结合 | 第109-110页 |
| §7．4 电泳沉积机理探讨 | 第110-116页 |
| §7．4．1 电泳沉积的基本原理 | 第110-112页 |
| §7．4．2 非水溶液体系中的电泳沉积 | 第112-116页 |
| §7．4．2．1 HA在非水溶液体系中的带电机理 | 第112-114页 |
| §7．4．2．2 非水溶液体系中的沉积机理 | 第114-116页 |
| §7．5 本章小结 | 第116-118页 |
| 第八章 主要结论 | 第118-120页 |
| 参考文献 | 第120-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 作者攻读博士学位期间已发表和待发表的论文 | 第131-133页 |