| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| Contents | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-29页 |
| ·研究意义、国内外研究现状 | 第14-16页 |
| ·ZnO概述 | 第16-19页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第16-18页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第18页 |
| ·ZnO的缺陷和掺杂 | 第18-19页 |
| ·稀土离子的4f-4f荧光 | 第19-22页 |
| ·磁控溅射技术简介 | 第22-27页 |
| ·引言 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射原理 | 第23-24页 |
| ·溅射镀膜方法 | 第24-26页 |
| ·磁控溅射技术的应用及特点 | 第26-27页 |
| ·本文的主要工作和创新点 | 第27-28页 |
| ·论文结构安排 | 第28-29页 |
| 第二章 氧化铝模板制备的ZnO/ZnO：Eu纳米线及其光学性能研究 | 第29-34页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验 | 第29-30页 |
| ·主要实验仪器 | 第29-30页 |
| ·主要实验原料 | 第30页 |
| ·样品制备 | 第30页 |
| ·样品测试 | 第30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-33页 |
| ·样品的表面形貌表征 | 第31-32页 |
| ·样品的发光性能分析 | 第32-33页 |
| ·结论 | 第33-34页 |
| 第三章 掺杂及制备条件对RF磁控溅射法制备ZnO薄膜结构的影响 | 第34-42页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验 | 第34-36页 |
| ·主要实验仪器 | 第34-35页 |
| ·主要实验原料 | 第35页 |
| ·稀土掺杂ZnO靶材的制备 | 第35-36页 |
| ·稀土掺杂ZnO薄膜样品制备 | 第36页 |
| ·样品测试 | 第36页 |
| ·实验结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·稀土掺杂对薄膜生长结构的影响 | 第36-37页 |
| ·衬底对薄膜生长结构的影响 | 第37-38页 |
| ·衬底温度对薄膜生长结构的影响 | 第38-39页 |
| ·溅射时间对薄膜晶体颗粒的影响 | 第39-40页 |
| ·ZnO：Eu薄膜的发光性能分析 | 第40页 |
| ·结论 | 第40-42页 |
| 第四章 白光LED用Ce,Cr掺杂YAG荧光陶瓷发光性能及其结构的研究 | 第42-48页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验 | 第42-43页 |
| ·主要实验仪器 | 第42页 |
| ·主要实验原料 | 第42-43页 |
| ·样品制备 | 第43页 |
| ·样品测量 | 第43页 |
| ·实验结果与讨论 | 第43-47页 |
| ·Ce,Cr掺杂对YAG陶瓷结构的影响 | 第43-45页 |
| ·Ce,Cr掺杂YAG陶瓷发光性能的分析 | 第45-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| 全文总结与展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-59页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
