| 摘要 | 第1-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| ·选题的意义 | 第14-15页 |
| ·耐磨涂层的制备技术 | 第15-19页 |
| ·化学气相沉积 | 第15-16页 |
| ·物理气相沉积 | 第16-19页 |
| ·耐磨涂层的发展现状 | 第19-24页 |
| ·硬涂层 | 第19-22页 |
| ·软涂层 | 第22-24页 |
| ·硬软复合涂层 | 第24页 |
| ·耐磨涂层的作用机理和影响因素 | 第24-27页 |
| ·刀具磨损的原因 | 第24-25页 |
| ·耐磨涂层的作用机理 | 第25-26页 |
| ·影响涂层刀具性能的因素 | 第26-27页 |
| ·本课题的背景和由来 | 第27页 |
| ·本课题的研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第28-38页 |
| ·封闭场非平衡磁控溅射离子镀原理与设备 | 第28-30页 |
| ·封闭场非平衡磁控溅射离子镀原理 | 第28-29页 |
| ·封闭场非平衡磁控溅射离子镀设备 | 第29-30页 |
| ·差热分析 | 第30-32页 |
| ·差热分析简介 | 第30-31页 |
| ·差热分析仪原理 | 第31-32页 |
| ·涂层试样的制备 | 第32-36页 |
| ·基体材料的选取与基体预处理 | 第32-33页 |
| ·涂层沉积工艺设计 | 第33-36页 |
| ·分析测试方法 | 第36-38页 |
| ·涂层硬度的测量 | 第36页 |
| ·金相显微分析 | 第36页 |
| ·电子探针分析(EPMA) | 第36页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第36页 |
| ·透射电镜分析(TEM) | 第36-37页 |
| ·差热分析(DTA) | 第37-38页 |
| 第三章 CrTiAlN涂层的结构和热性能研究 | 第38-48页 |
| ·CrTiAlN涂层表面形貌 | 第38页 |
| ·CrTiAlN涂层的显微硬度 | 第38-39页 |
| ·CrTiAlN涂层的成分及组织结构 | 第39-43页 |
| ·CrTiAlN涂层的成分分析 | 第39-41页 |
| ·CrTiAlN涂层的相分析 | 第41-42页 |
| ·CrTiAlN涂层的TEM分析 | 第42-43页 |
| ·CrTiAlN涂层的差热分析 | 第43-45页 |
| ·讨论分析 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 MoS2-Ti涂层的结构和热性能研究 | 第48-57页 |
| ·MoS_2-Ti涂层表面形貌 | 第48页 |
| ·MoS_2-Ti涂层的显微硬度 | 第48页 |
| ·MoS_2-Ti涂层的成分及组织结构 | 第48-54页 |
| ·MoS_2-Ti涂层的成分分析 | 第48-51页 |
| ·MoS_2-Ti涂层的相分析 | 第51-52页 |
| ·MoS_2-Ti涂层的TEM分析 | 第52-54页 |
| ·MoS_2-Ti涂层的差热分析 | 第54-55页 |
| ·讨论分析 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 CrTiAlN+MoS2-Ti涂层的结构和热性能研究 | 第57-64页 |
| ·CrTiAlN+MoS_2-Ti涂层表面形貌 | 第57页 |
| ·CrTiAlN+MoS2-Ti涂层的显微硬度 | 第57页 |
| ·CrTiAlN+MoS_2-Ti涂层的成分及组织结构 | 第57-62页 |
| ·CrTiAlN+MoS_2-Ti涂层的成分分析 | 第57-60页 |
| ·CrTiAlN+MoS_2-Ti涂层的相分析 | 第60-61页 |
| ·CrTiAlN+MoS_2-Ti涂层的TEM分析 | 第61-62页 |
| ·CrTiAlN+MoS_2-Ti涂层的差热分析 | 第62-63页 |
| ·讨论分析 | 第63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第73页 |
