摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-6页 |
1 绪论 | 第6-16页 |
·庞磁电阻锰氧化物的研究历史 | 第6-7页 |
·锰氧化物的基本特性 | 第7-11页 |
·锰氧化物材料的晶体结构 | 第7-9页 |
·锰氧化物的电子结构 | 第9-10页 |
·理论解释模型 | 第10-11页 |
·CaCu_xMn_(3-x)Mn_4O_(12)系列材料的研究概况 | 第11-14页 |
·本论文研究内容 | 第14-16页 |
2 材料的制备及表征方法 | 第16-23页 |
·材料的制备 | 第16页 |
·材料结构的X射线衍射表征方法 | 第16-18页 |
·Rietveld全谱拟合方法 | 第18-22页 |
·Rietveld全谱拟合的发展 | 第18页 |
·Rietveld全谱拟合的基本原理 | 第18-22页 |
·小结 | 第22-23页 |
3 Rietveld方法研究CaCu_xMn_(3-x)Mn_4O_(12)的晶体结构 | 第23-36页 |
·全谱拟合 | 第23-24页 |
·测试方法 | 第24页 |
·实验结果与讨论 | 第24-36页 |
4 结语 | 第36-37页 |
致谢 | 第37-38页 |
参考文献 | 第38-40页 |