用纳米球类光刻技术可控制备ZnO纳米点的研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 前言 | 第8-10页 |
第二章 文献综述 | 第10-30页 |
·ZnO材料的基本特点 | 第10页 |
·低维纳米结构材料 | 第10-11页 |
·ZnO量子点的性质 | 第11-15页 |
·量子尺寸效应 | 第11-12页 |
·表面效应 | 第12-13页 |
·量子限域效应 | 第13页 |
·ZnO量子点的光学性能 | 第13-14页 |
·ZnO量子点的热学稳定性 | 第14-15页 |
·ZnO量子点的应用 | 第15-17页 |
·量子点激光器 | 第16页 |
·单电子隧穿器件 | 第16-17页 |
·ZnO量子点的生长制备 | 第17-22页 |
·ZnO量子点的制备技术 | 第17-20页 |
·ZnO量子点的生长机理 | 第20-22页 |
·制备ZnO量子点的难点 | 第22-23页 |
·纳米球类光刻技术 | 第23-28页 |
·纳米球类光刻技术的介绍 | 第24-25页 |
·纳米球类光刻技术的应用 | 第25-28页 |
·课题的提出及意义 | 第28-30页 |
第三章 ZnO纳米点的制备 | 第30-40页 |
·实验内容 | 第30-32页 |
·自组装单层聚苯乙烯纳米球 | 第32-38页 |
·衬底处理的影响 | 第32-35页 |
·提拉的影响 | 第35-38页 |
·沉积ZnO后的模板 | 第38-39页 |
·形成的ZnO纳米点 | 第39-40页 |
第四章 ZnO纳米点的性能表征 | 第40-52页 |
·形貌表征 | 第40-42页 |
·场发射扫描电镜图(SEM) | 第40-42页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第42页 |
·成分分析(EDS) | 第42-43页 |
·晶体结构分析(XRD) | 第43-46页 |
·光致发光谱分析(PL) | 第46-49页 |
·ZnO纳米点的退火处理 | 第49-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第五章 实现 ZnO纳米点的可控制备 | 第52-60页 |
·改变 PS球的尺寸实现纳米点的可控生长 | 第52-53页 |
·改变沉积时间实现纳米点的可控生长 | 第53-58页 |
·本章小节 | 第58-60页 |
第六章 其它 ZnO纳米结构的制备 | 第60-70页 |
·ZnO蜂窝状纳米结构的制备 | 第60-64页 |
·衬底的选择 | 第60-62页 |
·沉积方法对形貌的影响 | 第62-64页 |
·规则排列的ZnO纳米结构的性能表征 | 第64-67页 |
·晶体结构测试(XRD) | 第64-65页 |
·成分分析(EDS) | 第65-66页 |
·紫外分光光度计分析(UV-vis) | 第66-67页 |
·规则排列的ZnO纳米结构的研究意义 | 第67-69页 |
·光子晶体性质 | 第67-68页 |
·仿生结构 | 第68-69页 |
·进一步的研究计划 | 第69页 |
·本章小结 | 第69-70页 |
第七章 结论 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
硕士期间科研成果 | 第78-80页 |
致谢 | 第80页 |