FFC剑桥工艺直接制备金属锰及锰铁合金
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 绪论 | 第11-24页 |
| ·锰的性质 | 第11页 |
| ·锰的用途 | 第11-12页 |
| ·锰的制备方法 | 第12-14页 |
| ·铝还原法（铝热法） | 第12页 |
| ·硅还原法（电硅热法） | 第12-13页 |
| ·电解锰盐溶液法 | 第13页 |
| ·氧化锰矿石的催化浸取法 | 第13页 |
| ·微生物催化氧化?还原耦合浸出法 | 第13页 |
| ·还原浸出法 | 第13-14页 |
| ·锰铁合金的用途 | 第14页 |
| ·锰铁合金生产方法 | 第14-15页 |
| ·高炉法 | 第14页 |
| ·电炉法 | 第14页 |
| ·感应炉法 | 第14-15页 |
| ·FFC 剑桥工艺 | 第15-23页 |
| ·FFC 剑桥工艺的显著特点 | 第16-17页 |
| ·FFC 剑桥工艺的应用研究 | 第17-21页 |
| ·FFC 剑桥工艺改进 | 第21页 |
| ·FFC 剑桥工艺的工业化 | 第21-23页 |
| ·研究目的和内容 | 第23-24页 |
| ·研究目的 | 第23页 |
| ·研究内容 | 第23-24页 |
| 2 实验方案 | 第24-32页 |
| ·熔盐的选择 | 第24-26页 |
| ·槽电压的确定 | 第26-27页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第27-29页 |
| ·实验仪器 | 第27-28页 |
| ·实验试剂 | 第28-29页 |
| ·技术路线和实验内容 | 第29-32页 |
| ·技术路线 | 第29-30页 |
| ·实验内容 | 第30-32页 |
| 3 熔盐电解MNO_2 制备MN 的研究 | 第32-43页 |
| ·成型压力的影响 | 第32页 |
| ·烧结温度的影响 | 第32-37页 |
| ·烧结温度对阴极片物相的影响 | 第32页 |
| ·烧结温度对阴极片微观形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·烧结温度对阴极片孔隙率的影响 | 第34页 |
| ·烧结温度对电解产物及过程的影响 | 第34-37页 |
| ·槽电压的影响 | 第37页 |
| ·电解时间的影响 | 第37-41页 |
| ·熔盐电解MNO_2 制备MN 的机理探讨 | 第41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 4 熔盐电解FE_2O_3 制备FE 的研究 | 第43-49页 |
| ·成型压力的影响 | 第43页 |
| ·烧结温度的影响 | 第43-45页 |
| ·烧结温度对阴极片物相的影响 | 第43-44页 |
| ·烧结温度对阴极片孔隙率的影响 | 第44页 |
| ·烧结温度对电解产物的影响 | 第44-45页 |
| ·槽电压的影响 | 第45-46页 |
| ·电解时间的影响 | 第46-47页 |
| ·熔盐电解FE_20_3 制备FE 的机理探讨 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 5 熔盐电解制备FEMN_4 的研究 | 第49-59页 |
| ·成型压力的影响 | 第49页 |
| ·烧结温度的影响 | 第49-53页 |
| ·烧结温度对阴极片物相的影响 | 第49页 |
| ·烧结温度对阴极片微观形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·烧结温度对阴极片孔隙率的影响 | 第50-51页 |
| ·烧结温度对电解产物及过程的影响 | 第51-53页 |
| ·槽电压的影响 | 第53-54页 |
| ·粒度的影响 | 第54页 |
| ·电解时间的影响 | 第54-57页 |
| ·熔盐电解制备FEMN_4 的机理探讨 | 第57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 导师简介 | 第66-67页 |
| 作者简介 | 第67-68页 |
| 学位论文数据集 | 第68页 |
