| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·电磁冷坩埚技术及发展 | 第11-13页 |
| ·电磁冷坩埚工作原理 | 第11-12页 |
| ·电磁冷坩埚优化设计 | 第12-13页 |
| ·电磁冷坩埚（技术）研究进展 | 第13页 |
| ·有限元数值计算方法 | 第13-17页 |
| ·电磁场有限元计算发展 | 第14-15页 |
| ·流动场有限元计算概论 | 第15-16页 |
| ·有限元计算在电磁冷坩埚方面的应用 | 第16-17页 |
| ·定向凝固原理与钛铝合金定向凝固研究进展 | 第17-22页 |
| ·定向凝固原理与发展现状 | 第17-19页 |
| ·钛铝合金定向凝固组织特点 | 第19-21页 |
| ·定向凝固钛铝合金应用及展望 | 第21-22页 |
| ·课题主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 研究路线及实验方法 | 第24-29页 |
| ·研究路线 | 第24-25页 |
| ·数值计算方案的确定 | 第24页 |
| ·电磁冷坩埚连续熔铸TiAl合金实验研究方案的确定 | 第24页 |
| ·总体研究框架与步骤 | 第24-25页 |
| ·实验方法 | 第25-28页 |
| ·电磁冷坩埚连续熔铸实验设备 | 第25-27页 |
| ·钛铝合金实验材料制备 | 第27-28页 |
| ·实验分析手段 | 第28-29页 |
| 第3章 冷坩埚电磁场与流动场的数值计算与分析 | 第29-58页 |
| ·前言 | 第29-30页 |
| ·ANSYS有限元软件概述 | 第29页 |
| ·ANSYS电磁场与流动场计算特点 | 第29-30页 |
| ·磁-流耦合场分析 | 第30页 |
| ·宽厚比2.5: 1 冷坩埚模型的建立 | 第30-34页 |
| ·三维坩埚造型尺寸与模型简化 | 第31-32页 |
| ·模型材料属性与有限元网格剖分 | 第32-34页 |
| ·钛铝合金连续熔铸定向凝固电磁场计算及变化规律 | 第34-48页 |
| ·相同电流载荷下坩埚内不同位置电磁场分析比较 | 第34-37页 |
| ·不同激励电流值对冷坩埚内空载磁场的影响规律 | 第37-40页 |
| ·不同电流频率下冷坩埚内电磁场分布特点 | 第40-42页 |
| ·坩埚开缝位置的径向电磁场特性 | 第42-44页 |
| ·钛铝合金定向凝固稳态期驼峰内电磁场规律与分析 | 第44-48页 |
| ·钛铝合金电磁冷坩埚定向凝固流场计算与特性分析 | 第48-56页 |
| ·熔池的洛伦兹力约束与电磁搅拌 | 第48-50页 |
| ·不同激励电流值下驼峰内流场规律与特征 | 第50-53页 |
| ·不同电流频率值的驼峰内流动场特性 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第4章 钛铝合金连续熔铸与定向凝固组织分析 | 第58-79页 |
| ·前言 | 第58页 |
| ·钛铝合金定向凝固组织宏观特征与分析 | 第58-65页 |
| ·宏观组织生长形态演变规律 | 第58-61页 |
| ·冷坩埚定向凝固稳态生长分析 | 第61-62页 |
| ·试样表面质量对内部组织的影响 | 第62-65页 |
| ·柱状晶形貌分析和生长机制 | 第65-71页 |
| ·柱状晶稳定生长区 | 第65-66页 |
| ·柱状晶的断续状生长现象 | 第66页 |
| ·柱状晶定向生长停止分析 | 第66-67页 |
| ·断电状态时凝固界面处柱状晶形貌转变 | 第67-68页 |
| ·柱状晶组织析出相形态与分布 | 第68-71页 |
| ·柱状晶稳定生长条件 | 第71页 |
| ·凝固界面形貌及其影响因素和机理 | 第71-77页 |
| ·冷坩埚连续熔铸条件下凝固界面形状与结构 | 第71-72页 |
| ·功率和抽拉速度对凝固界面形态的影响规律 | 第72-73页 |
| ·电磁搅拌对凝固界面形态的影响规律和分析 | 第73-74页 |
| ·坩埚结构对凝固界面形态的影响机理 | 第74页 |
| ·送料熔滴对凝固界面形态的影响特征 | 第74-75页 |
| ·影响凝固界面形态的其它因素 | 第75-76页 |
| ·凝固界面均匀平直化条件 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-87页 |
| 致谢 | 第87页 |