| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| ·电推进技术发展回顾 | 第8-12页 |
| ·电推进器的发展背景 | 第8页 |
| ·电推进器系统分类及工作原理 | 第8-9页 |
| ·典型电推进系统特点及性能比较 | 第9-10页 |
| ·电推进器系统国内外研究及应用现状 | 第10-12页 |
| ·霍尔推进器简述 | 第12-16页 |
| ·霍尔电推进器的结构和工作原理 | 第12-15页 |
| ·霍尔电推进器的放电特性 | 第15-16页 |
| ·霍尔推进器内等离子体与器壁相互作用 | 第16-18页 |
| ·鞘层的形成与影响 | 第16-17页 |
| ·器壁材料特性与二次电子发射 | 第17-18页 |
| ·二次电子对等离子体鞘层的影响 | 第18页 |
| ·霍尔推进器内外壁二次电子"双流"运动的形成与影响 | 第18页 |
| ·霍尔推进器内不稳定性概述 | 第18页 |
| ·本章小结 | 第18-20页 |
| 2 内外壁面二次电子对等离子体鞘层性质的相互影响 | 第20-40页 |
| ·二次电子的捕获系数 | 第20-22页 |
| ·推进器通道的鞘层模型 | 第22-26页 |
| ·数值计算结果与讨论 | 第26-38页 |
| ·二次电子的捕获系数对SPT鞘层的影响 | 第26-32页 |
| ·沉积在器壁的动能流 | 第32-36页 |
| ·二次电子发射对到鞘层电子温度临界温度的影响 | 第36-38页 |
| ·电荷饱和极限简单讨论 | 第38-40页 |
| 3 霍尔推进器通道二维粒子模拟 | 第40-48页 |
| ·等离子体粒子模拟 | 第40-41页 |
| ·等离子体粒子模拟简介 | 第40-41页 |
| ·霍尔推进器内粒子模拟方法的优势 | 第41页 |
| ·二维模型的建立和假设前提 | 第41-42页 |
| ·模型方程与边界条件 | 第42-44页 |
| ·无量纲化处理 | 第44页 |
| ·数值模拟结果与分析 | 第44-47页 |
| ·鞘层区域电子的能量分布 | 第44-45页 |
| ·电流密度和霍尔推进器运行参数之间的关系 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 4 二次电子发射对等离子体鞘层不稳定性的影响 | 第48-55页 |
| ·霍尔推进器内不稳定性的研究意义 | 第48-50页 |
| ·实际应用背景 | 第48页 |
| ·霍尔推进器内的不稳定性的分类和原因 | 第48-50页 |
| ·鞘层不稳定性理论研究 | 第50-54页 |
| ·不稳定性发生的理论分析 | 第50-51页 |
| ·鞘层不稳定性与二次电子回旋相角的关系 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 5 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 附录A | 第60-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |