HfO2薄膜的溅射制备及其性能研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-35页 |
| ·HfO_2的结构和性质 | 第10-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-23页 |
| ·HfO_2薄膜的制备 | 第23-25页 |
| ·本工作的研究目的和研究内容 | 第25-26页 |
| 小结 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-35页 |
| 第二章 制备工艺及表征方法 | 第35-50页 |
| ·溅射的基本原理 | 第35-38页 |
| ·本工作中的实验参数 | 第38-41页 |
| ·相关的检测方法 | 第41-49页 |
| 小结 | 第49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第三章 HfO_2薄膜的结构表征 | 第50-87页 |
| ·氧比例对结构的影响 | 第52-63页 |
| ·气压对结构的影响 | 第63-69页 |
| ·功率对结构的影响 | 第69-72页 |
| ·生长时间对结构的影响 | 第72-75页 |
| ·衬底温度对结构的影响 | 第75-77页 |
| ·衬底偏压对结构的影响 | 第77-81页 |
| ·衬底磁场对结构的影响 | 第81-82页 |
| ·靶基距对结构的影响 | 第82-84页 |
| 小结 | 第84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 第四章 HfO_2薄膜的光学性质 | 第87-127页 |
| ·氧比例对光学性质的影响 | 第89-92页 |
| ·气压对光学性质的影响 | 第92-98页 |
| ·功率对光学性质的影响 | 第98-103页 |
| ·生长时间对光学性质的影响 | 第103-106页 |
| ·衬底温度对光学性质的影响 | 第106-109页 |
| ·衬底偏压对光学性质的影响 | 第109-117页 |
| ·衬底磁场对光学性质的影响 | 第117-121页 |
| ·占空比对光学性质的影响 | 第121-122页 |
| ·靶基距对光学性质的影响 | 第122-124页 |
| 小结 | 第124页 |
| 参考文献 | 第124-127页 |
| 第五章 HfO_2薄膜的缺陷表征 | 第127-149页 |
| ·氧比例对缺陷的影响 | 第128-132页 |
| ·气压对缺陷的影响 | 第132-136页 |
| ·功率对缺陷的影响 | 第136-138页 |
| ·衬底偏压对缺陷的影响 | 第138-139页 |
| ·后处理对缺陷的影响 | 第139-142页 |
| ·激光损伤阈值测试 | 第142-145页 |
| 小结 | 第145-146页 |
| 参考文献 | 第146-149页 |
| 第六章 总结和展望 | 第149-153页 |
| 在学期间的研究成果 | 第153-155页 |
| 致谢 | 第155页 |
