等离子淬火设备控制装置的研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-19页 |
·课题研究的目的与意义 | 第11-15页 |
·国内外等离子淬火技术及其过程控制的发展 | 第15-17页 |
·课题研究及论文的主要内容及章节安排 | 第17-19页 |
第二章 等离子弧的基本概念 | 第19-26页 |
·等离子弧的定义 | 第19页 |
·等离子弧的结构 | 第19-21页 |
·等离子弧的结构分类 | 第19-20页 |
·三种电弧之间的比较 | 第20-21页 |
·等离子弧的伏安特性 | 第21-24页 |
·等离子弧的特点 | 第24-25页 |
·等离子弧淬火的参数分析 | 第25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
第三章 等离子淬火系统设备 | 第26-32页 |
·等离子弧淬火电源 | 第26-27页 |
·控制柜 | 第27-29页 |
·水路循环 | 第28页 |
·气路循环 | 第28-29页 |
·电路连接 | 第29页 |
·等离子表面淬火的机械设备 | 第29-31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
第四章 淬火电源部分的设计 | 第32-46页 |
·TL494功能介绍 | 第33-34页 |
·工作原理 | 第34-37页 |
·PWM控制的工作原理 | 第35-36页 |
·电源软起动的实现 | 第36页 |
·输出电压的调整与稳压控制 | 第36-37页 |
·淬火电源滤波及保护电路设计 | 第37-43页 |
·滤波电路 | 第37-40页 |
·过流保护电路 | 第40-42页 |
·过压保护电路 | 第42-43页 |
·系统的闭环控制 | 第43-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第五章 等离子淬火电流控制电路设计 | 第46-60页 |
·控制电路的设计方案 | 第46-47页 |
·控制电路实现功能 | 第46页 |
·控制系统设计要求 | 第46-47页 |
·控制系统的硬件设计 | 第47-59页 |
·控制核心CPU的选择 | 第48页 |
·淬火电流信号采集部分 | 第48-49页 |
·数字电位器接口电路 | 第49-50页 |
·利用CPLD扩展I/O口 | 第50-52页 |
·单片机PWM信号输出 | 第52-54页 |
·键盘和显示电路设计 | 第54-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
第六章 等离子淬火控制系统软件设计 | 第60-76页 |
·编译环境介绍 | 第60页 |
·控制系统主程序 | 第60-61页 |
·按键子程序 | 第61-71页 |
·参数显示按键子程序 | 第61-64页 |
·参数设置按键子程序 | 第64-66页 |
·简介按键子程序 | 第66-67页 |
·淬火工作按键程序 | 第67-69页 |
·工件选择按键子程序 | 第69-71页 |
·进程控制子程序 | 第71-72页 |
·A/D转换子程序 | 第72-73页 |
·E~2PROM读写子程序 | 第73-74页 |
·串口中断子程序 | 第74-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
第七章 实验结论分析与抗干扰设计 | 第76-84页 |
·试验设备与调试软件环境 | 第76页 |
·实验室模拟控制试验 | 第76-77页 |
·抗干扰设计 | 第77-83页 |
·空间电磁干扰 | 第77-78页 |
·电源抗干扰设计 | 第78-81页 |
·模拟通道的抗干扰设计 | 第81-82页 |
·数字通道的抗干扰设计 | 第82-83页 |
·本章小结 | 第83-84页 |
第八章 结论 | 第84-86页 |
参考文献 | 第86-88页 |
附录A 部分原程序清单 | 第88-99页 |
附录B 电源、控制部分设计电路 | 第99-102页 |
在校研究成果 | 第102-103页 |
致谢 | 第103页 |