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等离子淬火设备控制装置的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第一章 绪论第11-19页
   ·课题研究的目的与意义第11-15页
   ·国内外等离子淬火技术及其过程控制的发展第15-17页
   ·课题研究及论文的主要内容及章节安排第17-19页
第二章 等离子弧的基本概念第19-26页
   ·等离子弧的定义第19页
   ·等离子弧的结构第19-21页
     ·等离子弧的结构分类第19-20页
     ·三种电弧之间的比较第20-21页
   ·等离子弧的伏安特性第21-24页
   ·等离子弧的特点第24-25页
   ·等离子弧淬火的参数分析第25页
   ·本章小结第25-26页
第三章 等离子淬火系统设备第26-32页
   ·等离子弧淬火电源第26-27页
   ·控制柜第27-29页
     ·水路循环第28页
     ·气路循环第28-29页
     ·电路连接第29页
   ·等离子表面淬火的机械设备第29-31页
   ·本章小结第31-32页
第四章 淬火电源部分的设计第32-46页
   ·TL494功能介绍第33-34页
   ·工作原理第34-37页
     ·PWM控制的工作原理第35-36页
     ·电源软起动的实现第36页
     ·输出电压的调整与稳压控制第36-37页
   ·淬火电源滤波及保护电路设计第37-43页
     ·滤波电路第37-40页
     ·过流保护电路第40-42页
     ·过压保护电路第42-43页
   ·系统的闭环控制第43-45页
   ·本章小结第45-46页
第五章 等离子淬火电流控制电路设计第46-60页
   ·控制电路的设计方案第46-47页
     ·控制电路实现功能第46页
     ·控制系统设计要求第46-47页
   ·控制系统的硬件设计第47-59页
     ·控制核心CPU的选择第48页
     ·淬火电流信号采集部分第48-49页
     ·数字电位器接口电路第49-50页
     ·利用CPLD扩展I/O口第50-52页
     ·单片机PWM信号输出第52-54页
     ·键盘和显示电路设计第54-59页
   ·本章小结第59-60页
第六章 等离子淬火控制系统软件设计第60-76页
   ·编译环境介绍第60页
   ·控制系统主程序第60-61页
   ·按键子程序第61-71页
     ·参数显示按键子程序第61-64页
     ·参数设置按键子程序第64-66页
     ·简介按键子程序第66-67页
     ·淬火工作按键程序第67-69页
     ·工件选择按键子程序第69-71页
   ·进程控制子程序第71-72页
   ·A/D转换子程序第72-73页
   ·E~2PROM读写子程序第73-74页
   ·串口中断子程序第74-75页
   ·本章小结第75-76页
第七章 实验结论分析与抗干扰设计第76-84页
   ·试验设备与调试软件环境第76页
   ·实验室模拟控制试验第76-77页
   ·抗干扰设计第77-83页
     ·空间电磁干扰第77-78页
     ·电源抗干扰设计第78-81页
     ·模拟通道的抗干扰设计第81-82页
     ·数字通道的抗干扰设计第82-83页
   ·本章小结第83-84页
第八章 结论第84-86页
参考文献第86-88页
附录A 部分原程序清单第88-99页
附录B 电源、控制部分设计电路第99-102页
在校研究成果第102-103页
致谢第103页

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