| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·镁及镁合金 | 第10-12页 |
| ·镁合金的应用 | 第10-11页 |
| ·镁合金的表面处理 | 第11-12页 |
| ·微弧氧化技术 | 第12-15页 |
| ·微弧氧化的基本原理 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化基本过程 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术的优点 | 第15页 |
| ·研究现状 | 第15-20页 |
| ·研究意义及研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 试验材料与方法 | 第22-26页 |
| ·基体材料的选择与加工 | 第22页 |
| ·微弧氧化涂层的制备工艺 | 第22-24页 |
| ·恒流模式 | 第22-23页 |
| ·恒压模式 | 第23-24页 |
| ·涂层的组织结构及性能测试 | 第24-26页 |
| 第三章 恒流模式下微弧氧化涂层的组织与性能 | 第26-40页 |
| ·电压-时间曲线 | 第26-27页 |
| ·微弧氧化涂层的生长过程 | 第27-32页 |
| ·厚度 | 第27-28页 |
| ·涂层形貌 | 第28-30页 |
| ·显微硬度 | 第30页 |
| ·耐蚀性 | 第30-32页 |
| ·电流密度和基底的影响 | 第32-38页 |
| ·厚度 | 第32页 |
| ·相成分 | 第32-34页 |
| ·表面形貌 | 第34-36页 |
| ·显微硬度 | 第36页 |
| ·耐蚀性 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 恒压下含(NaPO_3)_6的电解液中微弧氧化涂层组织与性能 | 第40-54页 |
| ·涂层厚度 | 第40-41页 |
| ·相组成 | 第41-42页 |
| ·表面形貌 | 第42-46页 |
| ·电压的影响 | 第42-44页 |
| ·频率的影响 | 第44-45页 |
| ·占空比的影响 | 第45页 |
| ·基底的影响 | 第45-46页 |
| ·涂层的界面形貌及元素分布 | 第46-48页 |
| ·显微硬度 | 第48页 |
| ·耐蚀性 | 第48-52页 |
| ·电压的影响 | 第48-49页 |
| ·频率的影响 | 第49-50页 |
| ·占空比的影响 | 第50-51页 |
| ·基底的影响 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 恒压下含Na_3PO_4电解液中微弧氧化涂层的组织与性能 | 第54-70页 |
| ·涂层厚度 | 第54-56页 |
| ·相组成 | 第56页 |
| ·表面形貌 | 第56-61页 |
| ·电压的影响 | 第56-58页 |
| ·频率的影响 | 第58-59页 |
| ·占空比的影响 | 第59-60页 |
| ·基底的影响 | 第60-61页 |
| ·涂层的截面形貌和元素分布 | 第61-62页 |
| ·显微硬度 | 第62-63页 |
| ·耐蚀性 | 第63-68页 |
| ·不同电压的影响 | 第63-64页 |
| ·频率的影响 | 第64-65页 |
| ·占空比的影响 | 第65-66页 |
| ·不同基底的影响 | 第66-67页 |
| ·浓度的影响 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第六章 恒压下含Ca(H_2PO_4)_2电解液中微弧氧化涂层组织和性能 | 第70-85页 |
| ·涂层厚度 | 第70-72页 |
| ·相组成 | 第72-73页 |
| ·表面形貌 | 第73-77页 |
| ·电压的影响 | 第73-74页 |
| ·频率的影响 | 第74-75页 |
| ·占空比的影响 | 第75页 |
| ·基底的影响 | 第75-77页 |
| ·涂层的截面形貌及元素分布 | 第77-78页 |
| ·显微硬度 | 第78-79页 |
| ·耐蚀性 | 第79-83页 |
| ·电压的影响 | 第79-81页 |
| ·频率的影响 | 第81-82页 |
| ·占空比的影响 | 第82-83页 |
| ·本章小结 | 第83-85页 |
| 第七章 结论 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-92页 |
| 攻读硕士期间撰写和发表的学术论文 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第94页 |
