| 致谢 | 第1-5页 |
| 中文摘要 | 第5-7页 |
| 英文摘要 | 第7-9页 |
| 缩略语 | 第9-10页 |
| 目次 | 第10-12页 |
| 1 引言 | 第12-15页 |
| 2 实验仪器及材料 | 第15-22页 |
| ·仪器设备和耗材 | 第15-16页 |
| ·试剂 | 第16-17页 |
| ·细胞及其培养液 | 第17页 |
| ·免疫荧光相关试剂配制 | 第17-19页 |
| ·扫描电子显微镜相关试剂配制 | 第19页 |
| ·免疫印迹实验相关试剂配制 | 第19-22页 |
| 3 实验方法 | 第22-26页 |
| ·细胞培养 | 第22页 |
| ·分组与处理 | 第22-23页 |
| ·sXc-ELF工频磁场辐照系统 | 第23页 |
| ·免疫荧光法观察磁场对细胞F-actin细胞骨架的影响 | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜观察磁场对CHL细胞形态的变化 | 第24页 |
| ·划痕实验观察磁场对CHL细胞迁移的影响 | 第24页 |
| ·MTT法检测磁场对CHL细胞增殖的影响 | 第24页 |
| ·免疫印迹实验检测磁场对CHL细胞PI3K、pAkt表达的影响 | 第24-26页 |
| 4 实验结果 | 第26-34页 |
| ·50Hz,0.2、0.4 mT工频磁场辐照不同时间对CHL细胞F-actin骨架的影响 #15■ | 第26-29页 |
| ·50Hz,0.2、0.4 mT工频磁场辐照不同时间对CHL细胞表面形态的影响 | 第29-31页 |
| ·50Hz,0.4 mT工频磁场辐照不同时间对CHL细胞迁移的影响 | 第31-32页 |
| ·50Hz,0.4 mT工频磁场辐照不同时间对CHL细胞增殖的影响 | 第32页 |
| ·50Hz,0.4 mT工频磁场对CHL细胞PI3K蛋白的影响 | 第32-34页 |
| 5 讨论 | 第34-36页 |
| 6 结论 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-41页 |
| 综述 | 第41-47页 |
| 作者简历及在读期间所取得的科研成果 | 第47页 |
