| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 取向硅钢表面质量控制技术及其对硅钢性能的影响 | 第11-13页 |
| 1.2.1 表面质量控制技术 | 第11-13页 |
| 1.2.2 表面质量对的铁损影响 | 第13页 |
| 1.3 取向硅钢涂覆氧化镁工艺发展概况 | 第13-15页 |
| 1.3.1 大生产连续退火线上涂层机的概况 | 第14页 |
| 1.3.2 实验条件下的氧化镁涂覆方法 | 第14-15页 |
| 1.4 硅钢退火实验线的应用意义 | 第15-17页 |
| 1.5 硅钢退火实验线的特点 | 第17页 |
| 1.6 本文研究目的及主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 氧化镁的涂覆机理及选用 | 第19-31页 |
| 2.1 氧化镁的作用机理 | 第19-22页 |
| 2.2 氧化镁的分类及制备 | 第22-26页 |
| 2.2.1 氧化镁的分类 | 第22-23页 |
| 2.2.2 硅钢级氧化镁的制备 | 第23-26页 |
| 2.3 硅钢级氧化镁的特性表征 | 第26-28页 |
| 2.3.1 硅钢级氧化镁的产品特性 | 第26页 |
| 2.3.2 氧化镁性能的检测及产品表征 | 第26-28页 |
| 2.4 硅钢级氧化镁的选用 | 第28-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 取向硅钢氧化镁涂覆系统 | 第31-46页 |
| 3.1 氧化镁涂层机 | 第31-38页 |
| 3.1.1 涂覆系统的工艺流程及涂覆原理 | 第31-32页 |
| 3.1.2 涂层机的设备组成及参数 | 第32-37页 |
| 3.1.3 涂层机控制系统 | 第37-38页 |
| 3.2 烘干固化炉 | 第38-39页 |
| 3.2.1 烘干固化炉的设备组成及参数 | 第38页 |
| 3.2.2 烘干固化炉的控制 | 第38-39页 |
| 3.3 卷取系统 | 第39-45页 |
| 3.3.1 卷取系统的设备组成及参数 | 第39-40页 |
| 3.3.2 卷取系统的控制原理 | 第40-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 取向硅钢氧化镁涂覆工艺的研究 | 第46-58页 |
| 4.1 涂覆前的基体处理 | 第46-48页 |
| 4.1.1 脱碳退火前的表面清理 | 第46-47页 |
| 4.1.2 脱碳退火形成的氧化层 | 第47-48页 |
| 4.2 涂覆工艺 | 第48-56页 |
| 4.2.1 涂液的配置 | 第48-50页 |
| 4.2.2 添加剂的选取及添加 | 第50-51页 |
| 4.2.3 基于软测量的涂层厚度预测控制 | 第51-56页 |
| 4.3 烘干固化及卷取 | 第56-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 取向硅钢氧化镁涂覆工艺的应用 | 第58-67页 |
| 5.1 涂覆效果的检验 | 第58-61页 |
| 5.1.1 连续退火后的涂层检验 | 第58-60页 |
| 5.1.2 高温退火后的涂层检验 | 第60-61页 |
| 5.2 不同的氧化镁涂覆量对形成底层的影响 | 第61-64页 |
| 5.3 最终产品的性能分析 | 第64-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 第6章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72页 |