| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 主要符号表 | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2 氮氧化物排放控制技术 | 第13-15页 |
| 1.2.1 低氮燃烧技术 | 第13页 |
| 1.2.2 烟气脱硝技术 | 第13页 |
| 1.2.3 SCR技术简介 | 第13-15页 |
| 1.3 SCR催化剂研究进展 | 第15-19页 |
| 1.3.1 贵重金属催化剂 | 第15页 |
| 1.3.2 分子筛负载型催化剂 | 第15-16页 |
| 1.3.3 金属氧化物催化剂 | 第16-19页 |
| 1.3.4 中低温SCR脱硝催化剂存在的问题 | 第19页 |
| 1.4 SCR催化剂于H_2O和SO_2环境中的失活机理 | 第19-20页 |
| 1.4.1 H_2O使催化剂失活的机理 | 第19页 |
| 1.4.2 SO_2使催化剂失活的机理 | 第19-20页 |
| 1.5 密度泛函理论在SCR催化剂领域的应用 | 第20-21页 |
| 1.5.1 密度泛函理论简介 | 第20页 |
| 1.5.2 DMol3应用于SCR催化剂研究的实例 | 第20-21页 |
| 1.6 本文的研究内容及技术路线 | 第21-23页 |
| 1.6.1 研究内容 | 第22页 |
| 1.6.2 技术路线 | 第22-23页 |
| 第二章 实验系统及方法 | 第23-28页 |
| 2.1 实验试剂及主要仪器设备 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 主要仪器设备 | 第23-24页 |
| 2.2 催化剂样品的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.1 V-W-G/Ti催化剂样品 | 第24-25页 |
| 2.2.2 V-W-G-M/Ti(M=Ce、La、Y)催化剂样品 | 第25页 |
| 2.3 催化剂的活性评价 | 第25-26页 |
| 2.3.1 活性评价装置 | 第25-26页 |
| 2.3.2 反应条件 | 第26页 |
| 2.4 催化剂的表征方法 | 第26-27页 |
| 2.4.1 N2物理吸附-脱附 | 第27页 |
| 2.4.2 X射线衍射 | 第27页 |
| 2.4.3 NH_3-TPD程序升温脱附 | 第27页 |
| 2.4.4 H_2-TPR程序升温还原 | 第27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 V-W-G/Ti催化剂的配方优化及性能研究 | 第28-51页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 GO_x含量对V-W-G/Ti性能的影响 | 第28-35页 |
| 3.2.1 3V-10W-zG/Ti的脱硝活性 | 第28-29页 |
| 3.2.2 3V-10W-zG/Ti的抗硫性能 | 第29-30页 |
| 3.2.3 3V-10W-zG/Ti的抗水抗硫性能 | 第30-31页 |
| 3.2.4 3V-10W-zG/Ti的BET比表面积 | 第31-32页 |
| 3.2.5 3V-10W-zG/Ti的晶体形态 | 第32-33页 |
| 3.2.6 3V-10W-zG/Ti的表面酸性 | 第33-34页 |
| 3.2.7 3V-10W-zG/Ti的氧化还原能力 | 第34-35页 |
| 3.3 WO_3含量对3V-yW-2G/Ti性能的影响 | 第35-40页 |
| 3.3.1 3V-yW-2G/Ti的脱硝活性 | 第35-36页 |
| 3.3.2 3V-yW-2G/Ti的抗硫性能 | 第36-37页 |
| 3.3.3 3V-yW-2G/Ti的抗水抗硫性能 | 第37-38页 |
| 3.3.4 3V-yW-2G/Ti的BET比表面积 | 第38页 |
| 3.3.5 3V-yW-2G/Ti的晶体形态 | 第38-39页 |
| 3.3.6 3V-yW-2G/Ti的表面酸性 | 第39页 |
| 3.3.7 3V-yW-2G/Ti的氧化还原能力 | 第39-40页 |
| 3.4 V_2O_5含量对xV-5W-2G/Ti催化剂性能的影响 | 第40-47页 |
| 3.4.1 xV-5W-2G/Ti的脱硝活性 | 第41-42页 |
| 3.4.2 xV-5W-2G/Ti的抗硫性能 | 第42-43页 |
| 3.4.3 xV-5W-2G/Ti的抗水抗硫性能 | 第43-44页 |
| 3.4.4 xV-5W-2G/Ti的BET比表面积 | 第44页 |
| 3.4.5 xV-5W-2G/Ti的晶体形态 | 第44-45页 |
| 3.4.6 xV-5W-2G/Ti的表面酸性 | 第45-46页 |
| 3.4.7 xV-5W-2G/Ti的氧化还原能力 | 第46页 |
| 3.4.8 GHSV对xV-5W-2G/Ti脱硝活性的影响 | 第46-47页 |
| 3.5 硫化作用对V-W-G/Ti物化性质的影响 | 第47-49页 |
| 3.5.1 硫化作用对催化剂BET比表面积的影响 | 第47-48页 |
| 3.5.2 硫化作用对催化剂表面酸性的影响 | 第48页 |
| 3.5.3 硫化作用对催化剂氧化还原能力的影响 | 第48-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 稀土掺杂V-W-G/Ti催化剂的性能研究 | 第51-61页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 V-W-G-Ce/Ti催化剂的性能研究 | 第51-56页 |
| 4.2.1 浸渍顺序对V-W-G-Ce/Ti脱硝活性影响 | 第51-52页 |
| 4.2.2 不同配方的V-W-G-Ce/Ti脱硝活性比较 | 第52页 |
| 4.2.3 Ce掺杂V-W-G/Ti催化剂的BET比表面积 | 第52-53页 |
| 4.2.4 Ce掺杂V-W-G/Ti催化剂的表面酸性 | 第53页 |
| 4.2.5 Ce掺杂V-W-G/Ti催化剂的氧化还原能力 | 第53-54页 |
| 4.2.6 V-W-G-Ce/Ti的抗硫性能 | 第54-55页 |
| 4.2.7 3V-3W-2G-1Ce/91Ti的抗水抗硫性能 | 第55-56页 |
| 4.3 V-W-G-La(Y)/Ti催化剂的性能研究 | 第56-59页 |
| 4.3.1 La(Y)掺杂V-W-G/Ti催化剂的脱硝活性 | 第56-57页 |
| 4.3.2 La(Y)掺杂V-W-G/Ti催化剂的BET比表面积 | 第57页 |
| 4.3.3 La(Y)掺杂V-W-G/Ti催化剂的表面酸性 | 第57-58页 |
| 4.3.4 La(Y)掺杂V-W-G/Ti催化剂的氧化还原能力 | 第58-59页 |
| 4.4 3V-3W-2G-2M/Ti的晶体形态 | 第59页 |
| 4.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 钒或G氧化物表面对各气态分子的吸附行为研究 | 第61-77页 |
| 5.1 引言 | 第61-62页 |
| 5.2 钒或G氧化物表面的选取 | 第62-63页 |
| 5.2.1 钒氧化物表面V(001) | 第62页 |
| 5.2.2 G氧化物表面G(222)及G(111) | 第62-63页 |
| 5.3 V(001)对各气态分子的吸附行为 | 第63-68页 |
| 5.3.1 建立及优化V(001)的基底表面模型 | 第63-64页 |
| 5.3.2 V(001)对各气态分子的吸附能 | 第64页 |
| 5.3.3 V(001)对各气态分子吸附时的成键情况分析 | 第64-68页 |
| 5.4 G(222)对各气态分子的吸附行为 | 第68-72页 |
| 5.4.1 建立及优化G(222)的基底表面模型 | 第68页 |
| 5.4.2 G(222)对各气态分子的吸附能 | 第68-69页 |
| 5.4.3 G(222)对各气态分子吸附时的成键情况分析 | 第69-72页 |
| 5.5 G(111)对各气态分子的吸附行为 | 第72-76页 |
| 5.5.1 建立及优化G(111)的基底表面模型 | 第72页 |
| 5.5.2 G(111)对各气态分子的吸附能 | 第72-73页 |
| 5.5.3 G(111)对各气态分子吸附时的成键情况分析 | 第73-76页 |
| 5.6 本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 全文总结 | 第77-80页 |
| 6.1 主要结论 | 第77-78页 |
| 6.2 本文创新点 | 第78页 |
| 6.3 展望与建议 | 第78-80页 |
| 附录 | 第80-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及申请的专利 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
