| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-41页 |
| 1.1 电化学发光简介 | 第14页 |
| 1.2 电化学发光的特点 | 第14-16页 |
| 1.3 电化学发光的反应机理 | 第16-19页 |
| 1.3.1 湮灭型的电化学发光机理 | 第16-17页 |
| 1.3.2 共反应剂型的电化学发光机理 | 第17-19页 |
| 1.3.3 氧化物修饰的阴极电化学发光机理 | 第19页 |
| 1.4 电化学发光的主要体系 | 第19-24页 |
| 1.4.1 酰肼类体系 | 第19-20页 |
| 1.4.2 吖啶类体系 | 第20-22页 |
| 1.4.3 多环芳香烃类体系 | 第22页 |
| 1.4.4 过氧化草酸酯类体系 | 第22-23页 |
| 1.4.5 金属配合物体系 | 第23页 |
| 1.4.6 半导体纳米材料体系 | 第23-24页 |
| 1.5 电化学发光的研究进展 | 第24-25页 |
| 1.6 电化学发光的应用 | 第25-27页 |
| 1.6.1 电化学发光传感器 | 第25页 |
| 1.6.2 电化学发光免疫传感器 | 第25-26页 |
| 1.6.3 电化学发光核酸杂交分析 | 第26页 |
| 1.6.4 电化学发光成像 | 第26-27页 |
| 1.7 卟啉化合物的研究进展 | 第27-28页 |
| 1.7.1 卟啉化合物简介 | 第27-28页 |
| 1.7.2 卟啉化合物在电化学发光领域中的应用 | 第28页 |
| 1.8 本课题研究的意义及内容 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-41页 |
| 第二章 四苯基卟啉的电化学发光性能研究 | 第41-52页 |
| 2.1 引言 | 第41-42页 |
| 2.2 实验部分 | 第42-43页 |
| 2.2.1 仪器和试剂 | 第42页 |
| 2.2.2 电极的处理 | 第42-43页 |
| 2.2.3 实验方法 | 第43页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第43-49页 |
| 2.3.1 TPP的紫外吸收光谱 | 第43页 |
| 2.3.2 TPP的电化学发光 | 第43-46页 |
| 2.3.3 工作电极的选择 | 第46-47页 |
| 2.3.4 扫速的影响 | 第47-48页 |
| 2.3.5 TPP浓度的影响 | 第48-49页 |
| 2.3.6 稳定性实验 | 第49页 |
| 2.4 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第三章 meso-四(4-N-甲基吡啶基)卟啉/过硫酸钾体系的电化学发光及对对乙酰氨基酚的检测 | 第52-71页 |
| 3.1 引言 | 第52-53页 |
| 3.2 实验部分 | 第53-55页 |
| 3.2.1 试剂和原料 | 第53-54页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第54页 |
| 3.2.3 电极的处理 | 第54页 |
| 3.2.4 实验方法 | 第54-55页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第55-66页 |
| 3.3.1 紫外吸收 | 第55页 |
| 3.3.2 TMPy P/K_2S_2O_8体系的电化学发光研究 | 第55-56页 |
| 3.3.3 TMPy P/K_2S_2O_8体系的电化学行为研究 | 第56页 |
| 3.3.4 TMPy P/K_2S_2O_8体系可能的电化学发光机理 | 第56-58页 |
| 3.3.5 实验条件的优化 | 第58-63页 |
| 3.3.5.1 共反应剂的选择和浓度优化 | 第58-59页 |
| 3.3.5.2 缓冲体系的浓度和p H值的影响 | 第59-61页 |
| 3.3.5.3 TMPy P浓度的影响 | 第61页 |
| 3.3.5.4 扫速的影响 | 第61-62页 |
| 3.3.5.5 电位窗口的影响 | 第62-63页 |
| 3.3.6 TMPy P/K_2S_2O_8体系的稳定性 | 第63页 |
| 3.3.7 ACOP对TMPy P/K_2S_2O_8体系电化学发光的淬灭 | 第63-66页 |
| 3.3.7.1 ACOP加入时间对体系稳定性的影响 | 第64页 |
| 3.3.7.2 ACOP含量的检测 | 第64-65页 |
| 3.3.7.3 共存物质的干扰实验 | 第65-66页 |
| 3.3.7.4 实际样品检测 | 第66页 |
| 3.4 小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 第四章 四(4-磺酸基苯基)卟啉/过硫酸钾电化学发光体系对Cu~(2+)含量的测定 | 第71-90页 |
| 4.1 引言 | 第71-72页 |
| 4.2 实验部分 | 第72-73页 |
| 4.2.1 试剂和原料 | 第72页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第72页 |
| 4.2.3 电极的处理 | 第72-73页 |
| 4.2.4 实验方法 | 第73页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第73-85页 |
| 4.3.1 TSPP的荧光光谱 | 第73-74页 |
| 4.3.2 紫外吸收 | 第74-75页 |
| 4.3.3 TSPP/K_2S_2O_8体系的电化学行为研究 | 第75页 |
| 4.3.4 TSPP/K_2S_2O_8体系的电化学发光行为研究 | 第75-76页 |
| 4.3.5 TSPP/K_2S_2O_8体系可能的电化学发光机理 | 第76-77页 |
| 4.3.6 实验条件的优化 | 第77-81页 |
| 4.3.6.1 共反应剂的浓度优化 | 第77-78页 |
| 4.3.6.2 p H值的影响 | 第78-79页 |
| 4.3.6.3 TSPP浓度的影响 | 第79-80页 |
| 4.3.6.4 扫速的影响 | 第80-81页 |
| 4.3.6.5 电位窗口的影响 | 第81页 |
| 4.3.7 TSPP/K_2S_2O_8体系的稳定性 | 第81-82页 |
| 4.3.8 Cu~(2+)对TSPP/K_2S_2O_8体系电化学发光的淬灭 | 第82-85页 |
| 4.3.8.1 Cu~(2+)加入时间对体系稳定性的影响 | 第82-83页 |
| 4.3.8.2 Cu~(2+)含量的检测 | 第83-84页 |
| 4.3.8.3 共存物质的干扰实验 | 第84-85页 |
| 4.3.8.4 实际样品检测 | 第85页 |
| 4.4 小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-90页 |
| 在读硕士期间的成果 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
