| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 光催化的反应机理及影响因素 | 第10-12页 |
| 1.3 光催化剂性能的改进方法 | 第12-17页 |
| 1.3.1 掺杂 | 第12-14页 |
| 1.3.2 贵金属沉积 | 第14-15页 |
| 1.3.3 复合半导体 | 第15-16页 |
| 1.3.4 控制形貌和暴露晶面 | 第16-17页 |
| 1.4 半导体光催化剂研究现状 | 第17-19页 |
| 1.5 本文研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 暴露(001)晶面的La掺杂高光催化活性Bi_2MoO_6纳米片 | 第20-35页 |
| 2.1 引言 | 第20-21页 |
| 2.2 实验部分 | 第21-22页 |
| 2.2.1 实验样品的制备 | 第21页 |
| 2.2.2 样品的表征 | 第21-22页 |
| 2.2.3 样品的活性及机理测试 | 第22页 |
| 2.3 结果讨论 | 第22-34页 |
| 2.3.0 X射线粉末衍射(XRD) | 第22-23页 |
| 2.3.1 场发射扫描电镜(SEM) | 第23-24页 |
| 2.3.2 高分辨率透射电镜(HRTEM) | 第24-26页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第26-28页 |
| 2.3.4 比表面积(BET) | 第28-29页 |
| 2.3.5 固体紫外可见漫反射(UV-vis DRS) | 第29-30页 |
| 2.3.6 光致发光测试(PL) | 第30-31页 |
| 2.3.7 光催化活性和机理测试 | 第31-33页 |
| 2.3.8 讨论 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 Fe_2O_3/Bi_2MoO_6超薄纳米片的制备及性能研究 | 第35-48页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-37页 |
| 3.2.1 实验样品的制备 | 第36页 |
| 3.2.2 样品的表征 | 第36-37页 |
| 3.2.3 样品的活性及机理测试 | 第37页 |
| 3.3 结果讨论 | 第37-47页 |
| 3.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第37-38页 |
| 3.3.2 场发射扫描电镜(SEM) | 第38-40页 |
| 3.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第40-42页 |
| 3.3.4 比表面积(BET) | 第42页 |
| 3.3.5 固体紫外可见漫反射(UV-vis DRS) | 第42-43页 |
| 3.3.6 光致发光测试(PL) | 第43-44页 |
| 3.3.7 光催化活性和机理测试 | 第44-46页 |
| 3.3.8 讨论 | 第46-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 结论与展望 | 第48-50页 |
| 4.1 结论 | 第48-49页 |
| 4.2 展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士期间获得的学术成果 | 第69页 |
