硅基薄膜太阳能电池材料的制备与性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·硅基薄膜太阳能电池的国内外研究现状 | 第10-11页 |
| ·非晶硅薄膜太阳能电池 | 第11-16页 |
| ·多晶硅薄膜太阳能电池 | 第16-17页 |
| ·多晶硅薄膜的结构特点 | 第16-17页 |
| ·多晶硅薄膜的光电特性 | 第17页 |
| ·太阳能电池的工作原理 | 第17-22页 |
| ·太阳能电池的 pn 结 | 第17-18页 |
| ·太阳能电池的电流电压特性 | 第18-20页 |
| ·太阳能电池的光伏效应 | 第20页 |
| ·太阳能电池的能量转换过程 | 第20-22页 |
| ·太阳能电池的基本特性 | 第22-25页 |
| ·短路电流 | 第22页 |
| ·开路电压 | 第22-24页 |
| ·输出特性 | 第24-25页 |
| ·转化效率 | 第25页 |
| ·本课题的研究目的及其来源 | 第25-27页 |
| 第二章 实验方法和仪器 | 第27-35页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜技术 | 第27-32页 |
| ·磁控溅射法沉积薄膜 | 第27-30页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第30-31页 |
| ·薄膜的生长机理 | 第31-32页 |
| ·硅薄膜材料制备设备与表征方法 | 第32-35页 |
| ·磁控溅射设备及其主要性能参数 | 第32页 |
| ·薄膜性能的表征方法 | 第32-35页 |
| 第三章 非晶硅薄膜材料的制备与性能研究 | 第35-41页 |
| ·非晶硅薄膜材料制备 | 第35页 |
| ·溅射工艺参数对非晶硅薄膜沉积速率的影响 | 第35-40页 |
| ·工作气压对非晶硅薄膜沉积速率的影响 | 第35-36页 |
| ·衬底温度对非晶硅薄膜的沉积速率的影响 | 第36-37页 |
| ·溅射功率非晶硅对薄膜沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| ·薄膜厚度对非晶硅薄膜透光率的影响 | 第38-39页 |
| ·薄膜厚度对非晶硅薄膜反射率的影响 | 第39页 |
| ·硅薄膜的 XRD 图谱 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 多晶硅薄膜材料的制备与性能研究 | 第41-49页 |
| ·样品的制备 | 第41-42页 |
| ·衬底的准备 | 第41页 |
| ·铝硅复合薄膜的制备 | 第41页 |
| ·退火 | 第41页 |
| ·去除表面析出的铝 | 第41-42页 |
| ·多晶硅薄膜 XRD 图谱 | 第42-48页 |
| ·暴露在空气中氧化的情况 | 第42-44页 |
| ·在磁控溅射室连续成膜的情况 | 第44-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 等离子处理对硅薄膜性能的影响 | 第49-55页 |
| ·等离子体处理机理 | 第49-50页 |
| ·等离子处理对硅薄膜反射率的影响 | 第50页 |
| ·等离子处理对硅薄膜透光率的影响 | 第50-51页 |
| ·在不同功率下对硅薄膜的等离子处理 | 第51-52页 |
| ·不同功率下等离子处理的样品的 AFM 图像 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读学位期间的学术成果 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
