基于自组装和动态阴影沉积技术的Ag/SiO2多层复合材料宽带光吸收特性
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第15-29页 |
| 1.1 金属表面等离激元简介 | 第15-19页 |
| 1.1.1 表面等离极化激元 | 第17-18页 |
| 1.1.2 局域表面等离激元 | 第18-19页 |
| 1.2 电磁波吸收器及其应用 | 第19-25页 |
| 1.2.1 窄带宽吸收器 | 第19-22页 |
| 1.2.2 宽带吸收器 | 第22-25页 |
| 1.3 表面增强拉曼散射的概念和性质 | 第25-27页 |
| 1.3.1 拉曼散射的概念 | 第25-26页 |
| 1.3.2 表面增强拉曼散射的概念和性质 | 第26-27页 |
| 1.4 本论文的内容安排 | 第27-29页 |
| 2 实验与仿真模拟方法 | 第29-39页 |
| 2.1 常见制备纳米结构方法总结 | 第29-33页 |
| 2.1.1 电子束光刻技术 | 第29-30页 |
| 2.1.2 直接激光写入技术 | 第30-31页 |
| 2.1.3 掠射角沉积技术 | 第31-33页 |
| 2.1.4 阴影微球光刻 | 第33页 |
| 2.2 自组装胶体单层膜 | 第33-35页 |
| 2.2.1 滴涂法 | 第33-34页 |
| 2.2.2 对流组装法 | 第34页 |
| 2.2.3 旋涂法 | 第34页 |
| 2.2.4 空气/水界面方法 | 第34-35页 |
| 2.2.5 电场诱导自组装 | 第35页 |
| 2.3 结构形态的MATLAB模拟 | 第35-37页 |
| 2.3.1 模拟原理 | 第35-36页 |
| 2.3.2 模拟结果总结 | 第36-37页 |
| 2.4 FDTD仿真模拟介绍 | 第37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-39页 |
| 3 多层复合纳米材料的设计、制备及表征 | 第39-53页 |
| 3.1 仪器和方法介绍 | 第39-46页 |
| 3.1.1 PS单层膜制备 | 第42-44页 |
| 3.1.2 自组装PS微球单层膜表征 | 第44-46页 |
| 3.2 沉积次数的影响 | 第46-47页 |
| 3.2.1 沉积次数对表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| 3.2.2 沉积次数对光学性质的影响 | 第47页 |
| 3.3 沉积入射角对光学性质的影响 | 第47-49页 |
| 3.4 沉积厚度对光学性质的影响 | 第49-50页 |
| 3.5 FDTD仿真模拟结果与实验对比 | 第50-52页 |
| 3.6 本章小结 | 第52-53页 |
| 4 多层复合纳米材料的光学吸收特性 | 第53-67页 |
| 4.1 样品的制备 | 第53-56页 |
| 4.1.1 衬底的制备 | 第53-54页 |
| 4.1.2 Ag/SiO_2堆叠层的制备 | 第54-56页 |
| 4.2 样品的结构形貌表征 | 第56-57页 |
| 4.3 样品的光学性质表征 | 第57-65页 |
| 4.3.1 透过率表征 | 第57-59页 |
| 4.3.2 反射率表征 | 第59-60页 |
| 4.3.3 样品吸收率对比以及分析 | 第60-62页 |
| 4.3.4 样品的SERS性能表征 | 第62-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 5 总结与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 总结 | 第67-68页 |
| 5.2 展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 作者简历 | 第81-83页 |
| 学位论文数据集 | 第83页 |
