摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 研究背景 | 第10-11页 |
1.2 研究所的目的和意义 | 第11-12页 |
1.3 水质监测概念及水质监测分析方法 | 第12-16页 |
1.3.1 水质监测 | 第12-13页 |
1.3.2 水质监测分析方法 | 第13-16页 |
1.4 水体中的无机污染物及来源 | 第16-20页 |
1.4.1 无机无毒物 | 第16页 |
1.4.2 酸、碱、无机盐类的污染物质 | 第16-17页 |
1.4.3 无机有毒物 | 第17-20页 |
1.5. 国内外研究进展 | 第20-22页 |
1.5.1 国外研究进展 | 第20-21页 |
1.5.2 国内研究进展 | 第21-22页 |
1.6 研究内容与技术路线 | 第22-24页 |
1.6.1 研究内容 | 第22-23页 |
1.6.2 技术路线 | 第23-24页 |
第二章 . 电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES) | 第24-31页 |
2.1 离子发射光谱发展概况 | 第24-28页 |
2.2 电感藕合等离子体发射光谱法(ICP- OES)的组成 | 第28-31页 |
2.2.1 ICP 源及样品引入系统 | 第28-29页 |
2.2.2 OES 系统 | 第29-31页 |
第三章 .研究区域概况 | 第31-35页 |
3.1 自然环境概况 | 第31-33页 |
3.1.1 地理位置 | 第31-32页 |
3.1.2 地质地貌特征 | 第32页 |
3.1.3 气候特征 | 第32-33页 |
3.1.4 水文及水资源的情况 | 第33页 |
3.2 水磨沟社会经济状况 | 第33-35页 |
第四章 水磨河样品采样 | 第35-39页 |
4.1 水磨河功能划分 | 第35页 |
4.2 确定采样断面与收集 | 第35-39页 |
4.2.1 采样断面的布设 | 第35-37页 |
4.2.2 样品采集时间的确定 | 第37页 |
4.2.3 样品收集 | 第37-39页 |
第五章 实验部分 | 第39-43页 |
5.1 方法试验 | 第39-40页 |
5.1.1 试验地点 | 第39页 |
5.1.2 主要仪器 | 第39页 |
5.1.3 ICP- OES 法仪器工作条件 | 第39页 |
5.1.4 试剂 | 第39-40页 |
5.1.5 样品预处理 | 第40页 |
5.2 结果与讨论 | 第40-43页 |
5.2.1 仪器工作参数的优化 | 第40页 |
5.2.2 消解试剂的选择 | 第40-41页 |
5.2.3 分析线和检出限选择 | 第41-42页 |
5.2.4 干扰及消除 | 第42-43页 |
第六章 水磨河水环境中金属元素分析 | 第43-52页 |
6.1 各断面的金属元素的变化 | 第43-49页 |
6.1.1 搪瓷厂泉 | 第43-44页 |
6.1.2 七纺桥 | 第44-45页 |
6.1.3 联丰桥 | 第45-46页 |
6.1.4 米泉桥 | 第46-47页 |
6.1.5 皇渠 | 第47-49页 |
6.2 上游到下游金属元素的综合变化 | 第49-52页 |
第七章 结论与展望 | 第52-55页 |
7.1 分析结论 | 第52-53页 |
7.2 本文创新点 | 第53页 |
7.3 不足之处 | 第53-54页 |
7.4 展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-58页 |
附图 | 第58-60页 |
致谢 | 第60-61页 |