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磁控溅射制备BiFeO3薄膜及其光催化性能改性研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
1 前言第9-21页
    1.1 引言第9页
    1.2 光催化研究现状第9-12页
        1.2.1 光催化机理第9-11页
        1.2.2 光催化材料研究现状第11-12页
    1.3 BiFeO_3催化剂的研究现状第12-15页
        1.3.1 BiFeO_3的基本性质与应用第12-14页
        1.3.2 BiFeO_3材料的研究进展第14-15页
        1.3.3 BiFeO_3的光催化性能及其影响因素第15页
    1.4 提高BiFeO_3光催化性能的途径与方法第15-18页
        1.4.1 调控晶体结构和形貌第16页
        1.4.2 离子掺杂改性第16-17页
        1.4.3 复合形成异质结第17-18页
        1.4.4 嵌入贵金属纳米颗粒第18页
    1.5 论文的研究意义与内容第18-21页
2 样品的制备与表征第21-31页
    2.1 实验设备及材料简介第21-22页
    2.2 样品的制备第22-24页
        2.2.1 BiFeO_3薄膜的制备第22-23页
        2.2.2 N掺杂BiFeO_3(N-BiFeO_3)薄膜的制备第23-24页
        2.2.3 N-BiFeO_3/N-TiO_2复合薄膜的制备第24页
    2.3 薄膜的结构表征与分析第24-26页
        2.3.1 相结构分析第25页
        2.3.2 X射线光电子能谱分析第25页
        2.3.3 拉曼散射分析第25页
        2.3.4 微观结构分析第25-26页
    2.4 薄膜的光学性能和光催化性能分析第26-29页
        2.4.1 光吸收性能分析第26页
        2.4.2 光致发光性能分析第26-27页
        2.4.3 光催化性能分析第27-29页
    2.5 技术路线第29-31页
3 BiFeO_3薄膜的结构与性能分析第31-43页
    3.1 溅射气压对BiFeO_3薄膜相结构的影响第31-33页
    3.2 氧氩比对BiFeO_3薄膜结构与性能的影响第33-39页
        3.2.1 薄膜的结构表征与分析第33-36页
        3.2.2 薄膜的光学与光催化性能分析第36-39页
    3.3 退火温度对BiFeO_3薄膜相结构的影响第39-42页
    3.4 本章小结第42-43页
4 N-BiFeO_3薄膜的结构与性能分析第43-55页
    4.1 N-BiFeO_3薄膜的结构表征与分析第43-48页
        4.1.1 相结构分析第43-44页
        4.1.2 X射线光电子能谱分析第44-46页
        4.1.3 拉曼散射分析第46-47页
        4.1.4 微观结构分析第47-48页
    4.2 N-BiFeO_3薄膜的光学与光催化性能分析第48-54页
        4.2.1 光吸收性能分析第48-49页
        4.2.2 光致发光性能分析第49-50页
        4.2.3 光催化性能分析第50-54页
    4.3 本章小结第54-55页
5 N-BiFeO_3/N-TiO_2复合薄膜的结构和性能分析第55-65页
    5.1 N-BiFeO_3/N-TiO_2复合薄膜的结构表征与分析第55-58页
        5.1.1 相结构分析第55-56页
        5.1.2 X射线光电子能谱分析第56-57页
        5.1.3 微观结构分析第57-58页
    5.2 N-BiFeO_3/N-TiO_2复合薄膜的光学与光催化性能分析第58-64页
        5.2.1 光吸收性能分析第58-59页
        5.2.2 光致发光性能分析第59-60页
        5.2.3 光催化性能分析第60-64页
    5.3 本章小结第64-65页
6 结论与展望第65-67页
致谢第67-69页
参考文献第69-73页

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