| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 砷的理化性质 | 第9-10页 |
| 1.1.1 砷的物理性质 | 第9-10页 |
| 1.1.2 化学性质 | 第10页 |
| 1.2 砷的分布及来源 | 第10-14页 |
| 1.2.1 自然来源 | 第11-13页 |
| 1.2.2 人为原因 | 第13-14页 |
| 1.3 砷污染的危害 | 第14-15页 |
| 1.3.1 砷的毒性 | 第14页 |
| 1.3.2 砷污染的危害 | 第14-15页 |
| 1.4 影响水中砷形态的环境因素 | 第15-17页 |
| 1.4.1 pH 的影响 | 第15-16页 |
| 1.4.2 氧化还原电位的影响 | 第16页 |
| 1.4.3 吸附作用的影响 | 第16-17页 |
| 1.5 中国砷污染的现状 | 第17页 |
| 1.6 研究的目的及意义 | 第17-19页 |
| 2 除砷技术的研究现状 | 第19-33页 |
| 2.1 砷在水溶液中的状态 | 第19-20页 |
| 2.2 去除砷的技术方法 | 第20-24页 |
| 2.2.1 混凝沉淀技术 | 第20页 |
| 2.2.2 膜处理技术 | 第20-21页 |
| 2.2.3 吸附 | 第21-23页 |
| 2.2.4 其他方法 | 第23-24页 |
| 2.3 稳定化/固化技术 | 第24页 |
| 2.4 除砷技术的比较 | 第24-26页 |
| 2.5 混凝除砷机理 | 第26-30页 |
| 2.5.1 水中胶体的性质 | 第26-28页 |
| 2.5.2 胶体粒子与混凝剂之间的相互作用 | 第28-30页 |
| 2.6 混凝剂 | 第30-33页 |
| 2.6.1 铝盐混凝剂 | 第30页 |
| 2.6.2 铁盐混凝剂 | 第30-31页 |
| 2.6.3 硫酸钛混凝剂 | 第31-33页 |
| 3 实验部分 | 第33-41页 |
| 3.1 实验仪器与试剂 | 第33-35页 |
| 3.1.1 实验仪器 | 第33-35页 |
| 3.1.2 实验试剂 | 第35页 |
| 3.1.3 测试方法 | 第35页 |
| 3.2 实验方法 | 第35-41页 |
| 3.2.1 储备液的配制 | 第36-37页 |
| 3.2.2 pH 值的调节 | 第37页 |
| 3.2.3 混凝试验 | 第37-41页 |
| 4 实验结果与讨论 | 第41-57页 |
| 4.1 TICL_4和 TI(SO_4)_2水解沉淀物的粒径和电位 | 第41-43页 |
| 4.1.1 水解沉淀物的粒径变化 | 第41-42页 |
| 4.1.2 水解沉淀物的 Zeta 电位的变化 | 第42-43页 |
| 4.2 PH 值对 TI(SO_4)_2混凝除砷效果的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.1 水解沉淀物 Zeta 电位随 pH 值的变化 | 第43页 |
| 4.2.2 As(Ⅲ)去除率随 pH 值的变化 | 第43-44页 |
| 4.3 TI(SO_4)_2投加量对混凝除砷效果的影响 | 第44-47页 |
| 4.3.1 水解沉淀物 Zeta 电位随混凝剂投加量的变化 | 第44-45页 |
| 4.3.2 As(Ⅲ)去除率随混凝剂投加量的变化 | 第45-47页 |
| 4.4 AS(Ⅲ)初始浓度对混凝除砷效果的影响 | 第47-48页 |
| 4.4.1 水解沉淀物 Zeta 电位随 As(Ⅲ)的初始浓度变化 | 第47页 |
| 4.4.2 As(Ⅲ)去除效率随 As(Ⅲ)的初始浓度的变化 | 第47-48页 |
| 4.5 硅酸根和磷酸根对混凝除砷效果的影响 | 第48-52页 |
| 4.5.1 水解沉淀物 Zeta 电位随硅酸根离子浓度的变化 | 第48-49页 |
| 4.5.2 As(Ⅲ)去除效率随硅酸根离子浓度的变化 | 第49-50页 |
| 4.5.3 水解沉淀物 Zeta 电位随磷酸根离子浓度的变化 | 第50-51页 |
| 4.5.4 As(Ⅲ)去除效率随磷酸根离子浓度的变化 | 第51-52页 |
| 4.6 不同混凝剂对混凝效果的影响 | 第52-57页 |
| 4.6.1 pH 值对 TiCl_4混凝效果的影响 | 第52-54页 |
| 4.6.2 pH 值对不同混凝剂混凝效果的影响 | 第54-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
