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50A/1200V MPS二极管的设计与工艺仿真

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-13页
    1.1 概述第9-10页
    1.2 MPS二极管的提出和发展现状第10-12页
    1.3 课题研究意义及主要研究内容第12-13页
        1.3.1 课题研究意义第12页
        1.3.2 主要工作内容第12-13页
第2章 MPS二极管工作原理及特性第13-28页
    2.1 工作原理第13页
    2.2 正向导通特性第13-19页
        2.2.1 低正向偏压状态第13-15页
        2.2.2 大注入状态第15-17页
        2.2.3 导通压降第17-18页
        2.2.4 正向导通特性第18-19页
        2.2.5 末端区注入第19页
    2.3 反向阻断特性第19-20页
    2.4 开关特性第20-27页
    2.5 小结第27-28页
第3章 MPS二极管结构参数设计及特性仿真第28-43页
    3.1 Silvaco仿真软件介绍第28页
    3.2 MPS二极管设计指标及结构参数设计第28-30页
        3.2.1 设计指标第28-29页
        3.2.2 漂移区设计第29页
        3.2.3 P~+区设计第29-30页
    3.3 特性仿真与参数优化第30-37页
        3.3.1 静态特性第30-33页
        3.3.2 动态特性第33-35页
        3.3.3 高温特性第35-37页
    3.4 折衷特性第37-40页
        3.4.1 寿命优化第37-38页
        3.4.2 肖特基面积优化第38-40页
    3.5 MPS二极管和PIN二极管的比较第40-42页
    3.6 小结第42-43页
第4章 MPS二极管终端设计第43-49页
    4.1 多场限环的设计第43-47页
    4.2 场板设计第47页
    4.3 场板与场限环复合终端第47-48页
    4.4 小结第48-49页
第5章 MPS二极管工艺仿真及版图设计第49-57页
    5.1 ATHENA工艺仿真第49-50页
    5.2 MPS二极管工艺设计与仿真第50-56页
        5.2.1 ATHENA工艺仿真第50-52页
        5.2.2 实际工艺流程设计第52-56页
    5.3 MPS二极管版图设计第56页
    5.4 小结第56-57页
第6章 结论第57-58页
参考文献第58-61页
在学研究成果第61-62页
致谢第62页

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