50A/1200V MPS二极管的设计与工艺仿真
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-13页 |
| 1.1 概述 | 第9-10页 |
| 1.2 MPS二极管的提出和发展现状 | 第10-12页 |
| 1.3 课题研究意义及主要研究内容 | 第12-13页 |
| 1.3.1 课题研究意义 | 第12页 |
| 1.3.2 主要工作内容 | 第12-13页 |
| 第2章 MPS二极管工作原理及特性 | 第13-28页 |
| 2.1 工作原理 | 第13页 |
| 2.2 正向导通特性 | 第13-19页 |
| 2.2.1 低正向偏压状态 | 第13-15页 |
| 2.2.2 大注入状态 | 第15-17页 |
| 2.2.3 导通压降 | 第17-18页 |
| 2.2.4 正向导通特性 | 第18-19页 |
| 2.2.5 末端区注入 | 第19页 |
| 2.3 反向阻断特性 | 第19-20页 |
| 2.4 开关特性 | 第20-27页 |
| 2.5 小结 | 第27-28页 |
| 第3章 MPS二极管结构参数设计及特性仿真 | 第28-43页 |
| 3.1 Silvaco仿真软件介绍 | 第28页 |
| 3.2 MPS二极管设计指标及结构参数设计 | 第28-30页 |
| 3.2.1 设计指标 | 第28-29页 |
| 3.2.2 漂移区设计 | 第29页 |
| 3.2.3 P~+区设计 | 第29-30页 |
| 3.3 特性仿真与参数优化 | 第30-37页 |
| 3.3.1 静态特性 | 第30-33页 |
| 3.3.2 动态特性 | 第33-35页 |
| 3.3.3 高温特性 | 第35-37页 |
| 3.4 折衷特性 | 第37-40页 |
| 3.4.1 寿命优化 | 第37-38页 |
| 3.4.2 肖特基面积优化 | 第38-40页 |
| 3.5 MPS二极管和PIN二极管的比较 | 第40-42页 |
| 3.6 小结 | 第42-43页 |
| 第4章 MPS二极管终端设计 | 第43-49页 |
| 4.1 多场限环的设计 | 第43-47页 |
| 4.2 场板设计 | 第47页 |
| 4.3 场板与场限环复合终端 | 第47-48页 |
| 4.4 小结 | 第48-49页 |
| 第5章 MPS二极管工艺仿真及版图设计 | 第49-57页 |
| 5.1 ATHENA工艺仿真 | 第49-50页 |
| 5.2 MPS二极管工艺设计与仿真 | 第50-56页 |
| 5.2.1 ATHENA工艺仿真 | 第50-52页 |
| 5.2.2 实际工艺流程设计 | 第52-56页 |
| 5.3 MPS二极管版图设计 | 第56页 |
| 5.4 小结 | 第56-57页 |
| 第6章 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 在学研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
