| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外光伏发电产业现状 | 第10-13页 |
| 1.3 国内外太阳电池的研究现状. | 第13-14页 |
| 1.4 研究背景及意义. | 第14-15页 |
| 1.5 本文研究内容. | 第15-16页 |
| 第二章 太阳电池基本原理及制备工艺 | 第16-30页 |
| 2.1 太阳电池基本原理. | 第16-20页 |
| 2.1.1 光生伏打效应 | 第16页 |
| 2.1.2 太阳电池的工作原理 | 第16-18页 |
| 2.1.3 太阳电池的主要性能参数. | 第18-20页 |
| 2.2 晶体硅太阳电池制绒工艺 | 第20-29页 |
| 2.2.1 表面处理 | 第20-26页 |
| 2.2.2 扩散制结 | 第26页 |
| 2.2.3 去边和去背结 | 第26-27页 |
| 2.2.4 制作减反射膜 | 第27-28页 |
| 2.2.5 印刷电极和烧结 | 第28-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 硅片在HF/HNO3/H2O体系中的酸腐蚀研究 | 第30-45页 |
| 3.1 硅片在HF/HNO3/H2O体系中的腐蚀机理 | 第30-32页 |
| 3.2 各条件对腐蚀反应的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.1 添加剂 | 第32-33页 |
| 3.2.2 硅片表面情况 | 第33页 |
| 3.2.3 温度 | 第33页 |
| 3.2.4 硅片电阻率 | 第33-34页 |
| 3.2.5 搅拌 | 第34页 |
| 3.3 硅片在HF/HNO3/H2O体系中的腐蚀实验 | 第34-36页 |
| 3.3.1 实验设计 | 第34-35页 |
| 3.3.2 实验过程 | 第35-36页 |
| 3.4 结果及分析 | 第36-44页 |
| 3.4.1 腐蚀速率 | 第36-39页 |
| 3.4.2 绒面的光学特性 | 第39-43页 |
| 3.4.3 电池的电学特性 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 多晶硅太阳电池新腐蚀工艺 | 第45-57页 |
| 4.1 陷光机理 | 第45-47页 |
| 4.2 多晶硅新腐蚀工艺 | 第47-56页 |
| 4.2.1 实验设计 | 第47-48页 |
| 4.2.2 实验条件 | 第48页 |
| 4.2.3 结果和分析 | 第48-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 全文总结 | 第57-59页 |
| 5.1 主要结论 | 第57-58页 |
| 5.2 研究展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第63-65页 |
