| 附件 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 液晶显示器 | 第12-15页 |
| 1.1.1 液晶显示器概述 | 第12-13页 |
| 1.1.2 LCD 面板组成物质 | 第13-15页 |
| 1.2 从废旧 LCD 面板中回收铟的技术 | 第15-22页 |
| 1.2.1 酸浸出 | 第16-18页 |
| 1.2.2 氯化法 | 第18-19页 |
| 1.2.3 还原法 | 第19-20页 |
| 1.2.4 其他回收方法 | 第20页 |
| 1.2.5 主要的铟回收方法的比较 | 第20-22页 |
| 1.3 本课题研究内容与目标 | 第22-25页 |
| 1.3.1 研究目的与意义 | 第22-24页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验材料、设备及技术路线 | 第25-31页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 实验材料和设备 | 第25-29页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第25-26页 |
| 2.2.2 设备 | 第26-29页 |
| 2.3 技术路线 | 第29-31页 |
| 第三章 氧化铟真空碳还原反应分析 | 第31-43页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 金属氧化物在真空中的性质 | 第31-34页 |
| 3.2.1 金属氧化物在真空中的稳定性 | 第31-33页 |
| 3.2.2 金属氧化物的真空碳还原反应 | 第33-34页 |
| 3.3 氧化铟真空碳还原反应的热力学分析 | 第34-37页 |
| 3.3.1 氧化铟的真空碳还原 | 第34-35页 |
| 3.3.2 金属元素在真空高温下分离的可行性判断 | 第35-37页 |
| 3.4 氧化铟真空碳还原反应的动力学分析 | 第37-41页 |
| 3.4.1 化学反应动力学控制的数学模型 | 第38-39页 |
| 3.4.2 扩散动力学控制的数学模型 | 第39-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 氧化铟真空碳还原反应实验 | 第43-55页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 氧化铟真空碳还原实验 | 第43-53页 |
| 4.2.1 各因素对铟还原率的影响 | 第44-47页 |
| 4.2.2 正交试验的研究 | 第47-49页 |
| 4.2.3 氧化铟真空碳还原反应的产物分析 | 第49-52页 |
| 4.2.4 氧化铟真空碳还原反应的速率及表观活化能 | 第52-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 废旧液晶显示器面板的真空碳还原反应实验 | 第55-63页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 废旧液晶面板真空碳还原实验 | 第55-61页 |
| 5.2.1 碳添加量对液晶面板玻璃中铟回收率的影响 | 第56-57页 |
| 5.2.2 液晶玻璃粒径和反应时间对铟回收率的影响 | 第57-58页 |
| 5.2.3 氧化锡对铟回收率的影响 | 第58-59页 |
| 5.2.4 产物和残留物分析 | 第59-61页 |
| 5.3 本章小结 | 第61-63页 |
| 结论与展望 | 第63-65页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第70页 |
