| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 引言 | 第9-20页 |
| 1.1 紫外探测器概述 | 第9-10页 |
| 1.2 紫外探测器的基本原理及特性参数 | 第10-12页 |
| 1.3 几种紫外探测器 | 第12-13页 |
| 1.4 铁电材料概述 | 第13-14页 |
| 1.5 铁电薄膜的研究现状与进展 | 第14-19页 |
| 1.5.1 铁电材料的分类与应用 | 第14-15页 |
| 1.5.2 铁电材料的光伏原理 | 第15-16页 |
| 1.5.3 锆钛酸铅(PZT)材料 | 第16-19页 |
| 1.5.3.1 PZT薄膜的晶体结构 | 第16-17页 |
| 1.5.3.2 PZT薄膜的研究现状与应用 | 第17-19页 |
| 1.6 本文研究的主要内容及意义 | 第19-20页 |
| 第2章 铁电薄膜的制备方法及其性能测试技术 | 第20-32页 |
| 2.1 铁电薄膜的制备方法 | 第20-27页 |
| 2.1.1 溶胶—凝胶(Sol—Gel) | 第20页 |
| 2.1.2 化学气相沉积(CVD) | 第20-21页 |
| 2.1.3 分子束外延(MBE) | 第21-22页 |
| 2.1.4 脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition) | 第22页 |
| 2.1.5 溅射沉积 | 第22-27页 |
| 2.2 溅射沉积设备 | 第27-28页 |
| 2.2.1 溅射沉积系统 | 第27页 |
| 2.2.2 基片与靶材 | 第27-28页 |
| 2.3 测试分析技术 | 第28-32页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
| 2.3.2 原子力显微镜(AFM) | 第29-30页 |
| 2.3.3 紫外-可见分光光度计 | 第30-31页 |
| 2.3.4 铁电综合测试系统 | 第31-32页 |
| 第3章 LNO薄膜的制备及其结构与性能的研究 | 第32-45页 |
| 3.1 LNO底电极的制备 | 第32-34页 |
| 3.2 LNO薄膜的结构 | 第34-37页 |
| 3.2.1 LNO薄膜的结晶取向 | 第34-35页 |
| 3.2.2 LNO薄膜的表面形貌 | 第35-37页 |
| 3.3 LNO薄膜的光学特性 | 第37-42页 |
| 3.3.1 LNO薄膜的透射光谱 | 第37-39页 |
| 3.3.2 LNO薄膜的反射光谱 | 第39-41页 |
| 3.3.3 LNO薄膜的吸收光谱 | 第41-42页 |
| 3.4 LNO薄膜的电学特性 | 第42-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 PZT铁电薄膜的制备及其结构与性能研究 | 第45-66页 |
| 4.1 PZT铁电薄联的制备 | 第45-46页 |
| 4.2 PZT铁电薄膜的结构 | 第46-54页 |
| 4.2.1 X射线衍射(XRD)分析PZT铁电薄膜的结晶取向 | 第46-50页 |
| 4.2.2原子力显微镜（AFM)分析PZT铁电薄膜的表面形貌 | 第50-54页 |
| 4.3 PZT铁电薄膜的光学特性 | 第54-58页 |
| 4.4 PZT铁电薄膜的电学特性 | 第58-65页 |
| 4.4.1 Cu顶电极的制备 | 第58-60页 |
| 4.4.2 PZT薄膜的铁电性 | 第60-63页 |
| 4.4.3 PZT/LNO/K9玻璃的光电特性 | 第63-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 实验结论及研究工作展望 | 第66-68页 |
| 5.1 研究的工作总结 | 第66-67页 |
| 5.2 研究工作展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
