| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 WO_3概述 | 第10-13页 |
| 1.2.1 WO_3的结构和性质 | 第10-11页 |
| 1.2.2 WO_3气敏性能的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 碳纳米管概述 | 第13-18页 |
| 1.3.1 碳纳米管的结构与性能 | 第13-16页 |
| 1.3.2 碳纳米管的改性 | 第16-17页 |
| 1.3.3 碳纳米管气敏性能的研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4 WO_3/CNTs复合材料的合成及应用 | 第18-22页 |
| 1.5 课题研究的主要内容 | 第22-23页 |
| 第2章 薄膜的制备与表征 | 第23-39页 |
| 2.1 制备方法及方案设计 | 第23-24页 |
| 2.1.1 溶胶凝胶法 | 第23页 |
| 2.1.2 制备方案设计 | 第23-24页 |
| 2.2 实验前准备 | 第24-26页 |
| 2.2.1 前驱体工艺的选择 | 第24-25页 |
| 2.2.2 试剂与仪器 | 第25-26页 |
| 2.2.3 衬底预处理 | 第26页 |
| 2.3 纳米WO_3薄膜的制备和表征 | 第26-30页 |
| 2.3.1 WO_3前驱体溶胶的配制 | 第26-28页 |
| 2.3.2 WO_3薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.3 纳米WO_3薄膜的SEM表征 | 第29-30页 |
| 2.4 Pd掺杂的WO_3薄膜的制备和表征 | 第30-32页 |
| 2.4.1 Pd掺杂的WO_3薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.4.2 Pd掺杂的WO_3薄膜的SEM表征 | 第31-32页 |
| 2.5 WO_3/MWCNTs薄膜的制备和表征 | 第32-35页 |
| 2.5.1 碳纳米管的纯化 | 第32-34页 |
| 2.5.2 WO_3/MWCNTs薄膜的制备 | 第34页 |
| 2.5.3 WO_3/MWCNTs薄膜的SEM表征 | 第34-35页 |
| 2.6 Pd-WO_3/MWCNTs复合薄膜的制备和表征 | 第35-38页 |
| 2.6.1 Pd-WO_3/MWCNTs复合薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 2.6.2 Pd-WO_3/MWCNTs复合薄膜的AFM表征 | 第36-37页 |
| 2.6.3 Pd-WO_3/MWCNTs复合薄膜的XRD表征 | 第37-38页 |
| 2.7 本章小结 | 第38-39页 |
| 第3章 气敏机理与传感器结构设计 | 第39-50页 |
| 3.1 WO_3敏感材料的工作原理 | 第39-41页 |
| 3.1.1 WO_3敏感材料的气敏机理 | 第39-40页 |
| 3.1.2 WO_3敏感材料的吸附原理 | 第40-41页 |
| 3.2 Pd-WO_3/MWCNTs复合材料的气敏机理 | 第41-44页 |
| 3.3 传感器芯片的结构设计 | 第44-49页 |
| 3.3.1 传感器的芯片结构 | 第44-45页 |
| 3.3.2 叉指电极的设计 | 第45-47页 |
| 3.3.3 传感器芯片制作的工艺流程 | 第47-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 Pd-WO_3/MWCNTs复合材料气敏性能测试 | 第50-63页 |
| 4.1 气敏传感器测试系统的建立 | 第50-52页 |
| 4.1.1 测试系统的整体结构 | 第50-51页 |
| 4.1.2 传感器气敏测试流程 | 第51-52页 |
| 4.2 最佳掺杂量的选择 | 第52-53页 |
| 4.2.1 Pd掺杂量对气敏性能的影响 | 第52页 |
| 4.2.2 MWCNTS掺杂量对气敏性能的影响 | 第52-53页 |
| 4.3 传感器气敏性能测试 | 第53-62页 |
| 4.3.1 退火温度对气敏性能的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.2 气敏材料工作温度测试 | 第54-55页 |
| 4.3.3 初始电流值的测量 | 第55-56页 |
| 4.3.4 气敏材料灵敏度测试 | 第56-59页 |
| 4.3.5 气敏材料选择性测试 | 第59-60页 |
| 4.3.6 传感器响应恢复时间测试 | 第60-61页 |
| 4.3.7 传感器的重复性测试 | 第61-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
