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基于微弧氧化在TC4表面制备抗高温氧化膜新工艺设计

摘要第5-6页
abstract第6-7页
第一章 绪论第12-29页
    1.1 研究工作的背景与意义第12-13页
    1.2 钛合金的研究现状和发展态势第13-16页
        1.2.1 钛合金在航空工业中的发展现状第13-14页
        1.2.2 钛合金应用于航空工业中的性能优势第14-15页
        1.2.3 钛合金的分类第15-16页
        1.2.4 钛合金的存在的问题和发展前景第16页
    1.3 钛合金的表面处理技术研究现状和应用第16-19页
        1.3.1 溶胶-凝胶法第17页
        1.3.2 激光熔覆第17-18页
        1.3.3 离子注入法第18-19页
        1.3.4 热处理氧化法第19页
    1.4 钛合金微弧氧化技术第19-25页
        1.4.1 钛合金微弧氧化技术概述第19-20页
        1.4.2 钛合金微弧氧化技术的研究现状和趋势第20-23页
            1.4.2.1 钛合金微弧氧化技术的研究现状第20-22页
            1.4.2.2 钛合金微弧氧化技术的应用现状第22页
            1.4.2.3 钛合金微弧氧化技术的发展趋势第22-23页
        1.4.3 钛合金微弧氧化的特点第23页
        1.4.4 钛合金微弧氧化的影响因素第23-25页
            1.4.4.1 电解液第23-24页
            1.4.4.2 微弧氧化电源第24页
            1.4.4.3 实验电参数第24-25页
            1.4.4.4 氧化时间第25页
            1.4.4.5 阴极材料第25页
            1.4.4.6 反应环境第25页
    1.5 钛合金高温氧化第25-28页
        1.5.1 钛合金高温氧化特性第25-26页
        1.5.2 钛合金抗高温氧化表面处理技术的发展现状和未来趋势第26-28页
    1.6 本文的主要特色与创新第28页
    1.7 本论文的主要研究内容第28-29页
第二章 微弧氧化工艺方案设计第29-37页
    2.1 实验材料第29页
    2.2 电解液的配制第29-30页
    2.3 实验装置第30-31页
    2.4 实验所用化学品和主要设备第31-32页
        2.4.1 实验所用的化学品第31页
        2.4.2 实验所用的主要设备第31-32页
    2.5 工艺流程第32-34页
    2.6 微弧氧化膜的检测第34-35页
        2.6.1 膜层粗糙度和厚度测试第34页
        2.6.2 膜层微观表面形貌观察第34页
        2.6.3 掠射角X射线衍射分析第34页
        2.6.4 微弧氧化膜耐腐蚀性能检测第34页
        2.6.5 微弧氧化膜的硬度检测第34-35页
        2.6.6 氧化膜抗高温氧化性能的检测第35页
        2.6.7 氧化膜抗摩擦磨损性能的检测第35页
        2.6.8 氧化膜结合力性能检测第35页
        2.6.9 微弧氧化膜元素组成分析第35页
    2.7 本章小结第35-37页
第三章 微弧氧化工艺参数的正交优化和影响因素分析第37-60页
    3.1 电解液体系的选择第37-38页
        3.1.1 磷酸盐体系第37页
        3.1.2 铝酸盐体系第37页
        3.1.3 硅酸盐体系第37-38页
    3.2 电解液成分正交优化设计第38-41页
    3.3 电解液浓度对微弧氧化膜厚度的影响第41-42页
    3.4 电参数和氧化时间正交优化设计第42-48页
    3.5 工艺参数对微弧氧化膜表面质量的影响分析第48-50页
        3.5.1 电压第48页
        3.5.2 氧化时间第48-49页
        3.5.3 电流密度第49页
        3.5.4 占空比第49-50页
        3.5.5 脉冲频率第50页
    3.6 微弧氧化膜层的微观形貌分析第50-53页
        3.6.1 氧化时间对膜层微观形貌的影响第51页
        3.6.2 脉冲频率对膜层微观形貌的影响第51-52页
        3.6.3 电压对膜层微观形貌的影响第52-53页
    3.7 微弧氧化膜层的能谱分析第53-55页
    3.8 微弧氧化膜层的物相分析第55-58页
        3.8.1 电压对膜层相组成的影响第55-56页
        3.8.2 脉冲频率对膜层相组成的影响第56-57页
        3.8.3 氧化时间对膜层相组成的影响第57-58页
    3.9 本章小结第58-60页
第四章 抗高温氧化实验参数正交优化设计和影响因素分析第60-77页
    4.1 引言第60页
    4.2 高温氧化实验第60-61页
    4.3 抗高温氧化性能正交实验设计第61-67页
        4.3.1 极差分析第62-65页
        4.3.2 方差分析第65-67页
    4.4 氧化动力学分析第67-70页
    4.5 高温氧化膜层的微观形貌第70-71页
    4.6 高温氧化膜层的能谱分析第71-72页
    4.7 高温氧化膜层的物相分析第72-75页
    4.8 本章小结第75-77页
第五章 最优化工艺处理后的微弧氧化膜层性能分析第77-95页
    5.1 微弧氧化膜层耐腐蚀性能分析第77-82页
        5.1.1 微弧氧化工艺参数对耐腐蚀性能的影响第77-80页
        5.1.2 不同浓度的腐蚀介质下的膜层耐腐蚀性能评价第80-82页
    5.2 微弧氧化膜层硬度检测第82-84页
        5.2.1 硬度检测第82-83页
        5.2.2 膜层截面硬度分析第83页
        5.2.3 膜层高温硬度分析第83-84页
    5.3 微弧氧化膜层耐磨性能分析第84-92页
        5.3.1 微弧氧化膜层耐磨性实验第86-87页
        5.3.2 不同载荷下的膜层耐磨性分析第87-90页
        5.3.3 摩擦实验后膜层微观形貌分析第90-92页
        5.3.4 膜层高温耐磨性能分析第92页
    5.4 本章小结第92-95页
第六章 全文总结与展望第95-98页
    6.1 全文总结第95-97页
    6.2 后续工作展望第97-98页
致谢第98-99页
参考文献第99-105页

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