| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| 第一节 分子印迹技术简介 | 第10-12页 |
| 1.1.1 分子印迹技术的原理 | 第10-11页 |
| 1.1.2 分子印迹技术的分类 | 第11-12页 |
| 第二节 蛋白质分子印迹技术简介 | 第12-20页 |
| 1.2.1 本体印迹法 | 第13-14页 |
| 1.2.2 表面印迹法 | 第14-17页 |
| 1.2.3 抗原决定基印迹法 | 第17-20页 |
| 第三节 氮掺杂的石墨烯量子点简介 | 第20-22页 |
| 1.3.1 氮掺杂的石墨烯量子点 | 第20页 |
| 1.3.2 氮掺杂的石墨烯量子点的制备 | 第20-22页 |
| 第四节 量子点-分子印迹技术简介 | 第22-25页 |
| 第五节 本论文选题立意及创新性 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 基于氮掺杂石墨烯量子点的金属螯合法制备双模板抗原决定基印迹聚合物 | 第32-52页 |
| 第一节 引言 | 第32-34页 |
| 第二节 实验部分 | 第34-36页 |
| 2.2.1 仪器与试剂 | 第34-35页 |
| 2.2.2 N-GQDs的合成 | 第35页 |
| 2.2.3 N-GQDs/SiO_2的合成 | 第35页 |
| 2.2.4 N-GQDs/SiO_2/MIP的合成 | 第35-36页 |
| 2.2.5 荧光检测 | 第36页 |
| 2.2.6 实际样分析 | 第36页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第36-46页 |
| 2.3.1 N-GQDs/SiO_2/MIP的制备与表征 | 第36-40页 |
| 2.3.2 N-GQDs/SiO_2/MIP对Cyt C的荧光响应 | 第40-44页 |
| 2.3.3 选择性和竞争性检测 | 第44-46页 |
| 2.3.4 实际样检测 | 第46页 |
| 第四节 结论 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 第三章 二氧化硅/氮掺杂石墨烯量子点/抗原决定基印迹聚合物的制备 | 第52-65页 |
| 第一节 前言 | 第52-54页 |
| 第二节 实验部分 | 第54-56页 |
| 3.2.0 仪器与试剂 | 第54页 |
| 3.2.1 N-GQDs的合成 | 第54页 |
| 3.2.2 氨基修饰的硅纳米粒子（NH2-SiO_2）的合成 | 第54-55页 |
| 3.2.3 NH_2-SiO_2/N-GQDs纳米粒子的合成 | 第55页 |
| 3.2.4 NH_2-SiO_2/N-GQDs/MIP的合成 | 第55页 |
| 3.2.5 荧光检测 | 第55-56页 |
| 第三节 结果与讨论 | 第56-61页 |
| 3.3.1 NH_2-SiO_2/N-GQDs/MIP的制备与表征 | 第56-59页 |
| 3.3.2 NH_2-SiO_2/N-GQDs/MIP对Cyt C的荧光响应 | 第59-61页 |
| 第四节 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第66页 |
