氧化铝模板与阵列纳米材料的制备
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第一章 引言 | 第9-19页 |
| 1．1 纳米材料的定义 | 第9-11页 |
| 1．2 纳米材料的发展 | 第11-13页 |
| 1．3 纳米材料的新效应 | 第13-17页 |
| 1．4 纳米材料的制备方法 | 第17-19页 |
| 第二章 本论文的立题依据 | 第19-27页 |
| 2．1 阵列体系纳米材料及纳米复制 | 第19-20页 |
| 2．2 稀土荧光材料量子点阵的制备研究 | 第20-23页 |
| 2．3 形状记忆合金 | 第23-26页 |
| 2．4 本论文的研究工作 | 第26-27页 |
| 第三章 AAO模板的制备研究 | 第27-49页 |
| 3．1 AAO模板的结构及优点 | 第27-28页 |
| 3．2 AAO模板的制备方法 | 第28-32页 |
| 3．2．1 铝片的预处理 | 第29-30页 |
| 3．2．2 一次阳极氧化法 | 第30-31页 |
| 3．2．3 二次阳极氧化法 | 第31-32页 |
| 3．3 实验结果及讨论 | 第32-48页 |
| 3．3．1 铝箔的金相显微镜图象 | 第33-34页 |
| 3．3．2 AAO模板的XRD表征 | 第34-35页 |
| 3．3．3 AAO模板的SEM和AFM表征 | 第35-40页 |
| 3．3．4 阳极氧化过程中的电流变化 | 第40-43页 |
| 3．3．5 AAO模板的形成机理 | 第43-48页 |
| 3．4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 稀土荧光材料的制备 | 第49-52页 |
| 第五章 用 PLD法制备纳米材料 | 第52-69页 |
| 5．1 PLD简介及其优点 | 第52-57页 |
| 5．2 PLD操作步骤 | 第57-60页 |
| 5．2．1 纳米稀土荧光材料的制备 | 第58-59页 |
| 5．2．2 Ti-Pd合金纳米材料的制备 | 第59-60页 |
| 5．3 结果与讨论 | 第60-68页 |
| 5．3．1 荧光材料量子点阵制备的尝试 | 第60-62页 |
| 5．3．2 Ti-Pd合金纳米孔道阵列模板的复制 | 第62-66页 |
| 5．3．3 Ti-Pd合金纳米线的制备 | 第66-68页 |
| 5．4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 结论与展望 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 硕士期间发表文章 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
