摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-28页 |
1.1 有机染料污染的危害 | 第8页 |
1.2 As(Ⅲ)污染的危害 | 第8-9页 |
1.3 传统工业废水处理方法 | 第9-11页 |
1.4 高级氧化法(Feton及半导体光催化技术) | 第11-15页 |
1.4.1 Fenton及类Fenton氧化法 | 第12-13页 |
1.4.2 半导体光催化技术 | 第13-15页 |
1.5 四氧化三钴简介 | 第15-24页 |
1.5.1 结构性质 | 第15-16页 |
1.5.2 影响Co_3O_4光催化剂活性的因素及相关研究进展 | 第16-19页 |
1.5.3 石墨烯概述 | 第19-20页 |
1.5.4 不同Co_3O_4的制备方法 | 第20-24页 |
1.6 目前光催化剂的缺陷 | 第24-25页 |
1.7 Fe_3O_4简介 | 第25页 |
1.8 论文研究的目的与意义、主要内容及技术路线 | 第25-28页 |
1.8.1 rGo/Co_3O_4/Co(OH)_2研究目的、意义 | 第25-26页 |
1.8.2 rGo/Co_3O_4/Co(OH)_2光催化剂研究内容、技术路线 | 第26页 |
1.8.3 Fe_3O_4@CMC-Fe(Ⅲ)吸附剂的研究目的、意义 | 第26-27页 |
1.8.4 Fe_3O_4@CMC-Fe(Ⅲ)吸附剂研究内容、技术路线 | 第27-28页 |
第二章 实验部分 | 第28-30页 |
2.1 试剂 | 第28-29页 |
2.2 试验仪器设备 | 第29-30页 |
第三章 rGO/Co_3O_4/Co(OH)_2催化剂的制备、表征、及其光催化性能研究 | 第30-43页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 实验部分 | 第30-32页 |
3.2.1 氧化石墨烯的制备 | 第30-31页 |
3.2.2 rGO/Co_3O_4/Co(OH)_2催化剂的制备 | 第31页 |
3.2.3 光催化实验 | 第31-32页 |
3.3 样品的表征 | 第32-39页 |
3.3.1 样品的XRD分析 | 第32-34页 |
3.3.2 样品的形貌分析(SEM/TEM) | 第34-36页 |
3.3.3 样品的红外光谱分析(FTIR) | 第36-37页 |
3.3.4 比表面积 | 第37页 |
3.3.5 热重分析 | 第37-38页 |
3.3.6 rGO/Co_3O_4/Co(OH)_2复合催化剂Raman分析 | 第38-39页 |
3.4 rGO/Co_3O_4/Co(OH)_2复合材料的形成、光催化机理 | 第39-40页 |
3.4.1 形成机理研究 | 第39-40页 |
3.4.2 光降解机理研究 | 第40页 |
3.5 rGO/Co_3O_4/Co(OH)_2复合催化剂UV-vis分析 | 第40-41页 |
3.6 rGO/Co_3O_4/Co(OH)_2复合催化剂的循环性质 | 第41-42页 |
3.7 本章小结 | 第42-43页 |
第四章 Fe(Ⅲ)负载纳米Fe_3O_4吸附剂去除废水中As(Ⅲ) | 第43-53页 |
4.1 引言 | 第43-44页 |
4.2 实验部分 | 第44页 |
4.2.1 Fe_3O_4纳米粒子的合成 | 第44页 |
4.2.2 Fe_3O_4@CMC-Fe(Ⅲ)复合材料的合成 | 第44页 |
4.2.3 Fe_3O_4@CMC-Fe (Ⅲ)复合材料吸附As实验 | 第44页 |
4.3 材料的表征 | 第44-47页 |
4.3.1 Fe_3O_4@CMC-Fe(Ⅲ)的形貌表征 | 第44-45页 |
4.3.2 Fe_3O_4@CMC-Fe(Ⅲ)的XRD分析 | 第45-46页 |
4.3.3 Fe_3O_4@CMC-Fe(Ⅲ)的FTIR红外光谱分析 | 第46-47页 |
4.4 Fe_3O_4@CMC-Fe(Ⅲ)的吸附性能研究 | 第47-50页 |
4.4.1 Langmuir及Freundlich拟合 | 第47-48页 |
4.4.2 吸附动力学分析 | 第48-49页 |
4.4.3 吸附剂用量对吸附结果的影响 | 第49-50页 |
4.5 pH对吸附试验的影响 | 第50-51页 |
4.6 离子的竞争效应对吸附试验的影响 | 第51页 |
4.7 本章小结 | 第51-53页 |
结论 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-61页 |