基于PET基底近红外电磁屏蔽膜的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 研究现状 | 第7-11页 |
| 1.3 课题研究的主要内容 | 第11-13页 |
| 第二章 金属网栅的基础理论与结构设计 | 第13-22页 |
| 2.1 金属网栅的电磁屏蔽特性 | 第13-17页 |
| 2.2 金属网栅的光学透过特性 | 第17-19页 |
| 2.3 金属网栅特征参数优化设计 | 第19-21页 |
| 2.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 光刻工艺研究 | 第22-32页 |
| 3.1 光刻工艺的概述 | 第22-23页 |
| 3.2 实验制作 | 第23-30页 |
| 3.3 实验结果 | 第30-31页 |
| 3.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 PET基底镀膜工艺研究 | 第32-48页 |
| 4.1 热蒸发制备金属薄膜 | 第32-38页 |
| 4.2 磁控溅射制备金属薄膜 | 第38-47页 |
| 4.3 本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 测试与分析 | 第48-52页 |
| 5.1 光谱性能 | 第48-49页 |
| 5.2 电磁屏蔽性能 | 第49-51页 |
| 5.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 6.1 总结 | 第52页 |
| 6.2 创新点 | 第52-53页 |
| 6.3 展望 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 附录 | 第57页 |
