| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 分子蒸馏基础理论及概念 | 第11-13页 |
| 1.2.1 分子蒸馏的基本原理 | 第11页 |
| 1.2.2 平均自由程 | 第11-12页 |
| 1.2.3 蒸发速率 | 第12页 |
| 1.2.4 分离因数 | 第12-13页 |
| 1.3 分子蒸馏技术的发展及应用 | 第13-14页 |
| 1.4 分子蒸馏的过程及设备装置 | 第14-16页 |
| 1.4.1 分子蒸馏的过程 | 第14-15页 |
| 1.4.2 分子蒸馏设备 | 第15-16页 |
| 1.5 分子蒸馏过程理论研究 | 第16-22页 |
| 1.5.1 分子蒸馏研究方法 | 第16-17页 |
| 1.5.2 液膜流体力学的研究 | 第17-20页 |
| 1.5.3 冷凝过程对分子蒸馏的影响 | 第20页 |
| 1.5.4 不凝性气体分子对分子蒸馏的影响 | 第20-21页 |
| 1.5.5 分子蒸馏的其它影响因素 | 第21-22页 |
| 1.6 本文主要研究内容及意义 | 第22-25页 |
| 第二章 离心式分子蒸馏的CFD/DSMC方法 | 第25-48页 |
| 2.1 计算流体力学（CFD）方法 | 第25-26页 |
| 2.2 直接模拟Monte-Carlo（DSMC）方法 | 第26-43页 |
| 2.2.1 稀薄气体运动的求解方法 | 第26-27页 |
| 2.2.2 DSMC方法基本理论 | 第27-35页 |
| 2.2.3 DSMC方法计算流程 | 第35-43页 |
| 2.3 CFD与DSMC耦合方法 | 第43-46页 |
| 2.3.1 耦合界面的确定 | 第43-44页 |
| 2.3.2 交界面处信息的传递 | 第44-45页 |
| 2.3.3 耦合方法实施的主要步骤 | 第45-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第三章 离心式分子蒸馏过程的CFD/DSMC模拟 | 第48-105页 |
| 3.1 物理模型及网格划分 | 第48-51页 |
| 3.2 计算模型 | 第51-59页 |
| 3.2.1 CFD计算域模型 | 第51-54页 |
| 3.2.2 DSMC计算域模型 | 第54-57页 |
| 3.2.3 物性参数 | 第57-58页 |
| 3.2.4 求解方案 | 第58-59页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第59-102页 |
| 3.3.1 模型的验证 | 第59-60页 |
| 3.3.2 液膜无波动时行为分析 | 第60-69页 |
| 3.3.3 液膜产生波动时行为分析 | 第69-79页 |
| 3.3.4 气相行为分析 | 第79-92页 |
| 3.3.5 不凝性气体及转盘倾角的影响 | 第92-97页 |
| 3.3.6 模拟与实验对比 | 第97-102页 |
| 3.4 本章小结 | 第102-105页 |
| 第四章 激光诱导荧光技术测量分子蒸馏器表面液膜分布 | 第105-124页 |
| 4.1 实验与测量原理 | 第105-106页 |
| 4.2 实验装置及步骤 | 第106-110页 |
| 4.2.1 实验装置 | 第106-107页 |
| 4.2.2 标定及实验步骤 | 第107-110页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第110-122页 |
| 4.3.1 液膜厚度 | 第110-112页 |
| 4.3.2 膜厚统计特性 | 第112-115页 |
| 4.3.3 液膜厚度数学模型 | 第115-122页 |
| 4.4 本章小结 | 第122-124页 |
| 第五章 分子蒸馏器转盘受热液膜破断特性 | 第124-137页 |
| 5.1 物理模型 | 第124-129页 |
| 5.1.1 过冷液膜破断特性 | 第124-129页 |
| 5.1.2 饱和液膜破断特性 | 第129页 |
| 5.2 分子蒸馏器转盘上液膜破断模型 | 第129-130页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第130-136页 |
| 5.3.1 接触角的影响 | 第130-132页 |
| 5.3.2 表面张力的影响 | 第132-133页 |
| 5.3.3 流体温度的影响 | 第133-134页 |
| 5.3.4 转盘转速的影响 | 第134-136页 |
| 5.4 本章小结 | 第136-137页 |
| 第六章 结论与展望 | 第137-141页 |
| 6.1 主要内容与结论 | 第137-139页 |
| 6.2 展望 | 第139-141页 |
| 符号说明 | 第141-145页 |
| 参考文献 | 第145-156页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第156-157页 |
| 致谢 | 第157-158页 |