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低气压容性耦合等离子体均匀性的实验研究

摘要第4-6页
abstract第6-7页
第一章 引言第10-22页
    1.1 低温等离子体概况第10-11页
        1.1.1 低温等离子体的产生第10-11页
    1.2 射频等离子体的放电种类第11-12页
        1.2.1 电感耦合等离子体放电第11-12页
        1.2.2 电容耦合等离子体放电第12页
    1.3 容性耦合等离子体理论第12-19页
        1.3.1 容性耦合等离子体的电磁效应第12-14页
        1.3.2 等离子体鞘层理论第14-16页
        1.3.3 容性耦合等离子体的加热机制第16-18页
        1.3.4 容性耦合等离子体的研究背景与现状第18-19页
    1.4 低气压容性耦合等离子体的应用第19-21页
        1.4.1 刻蚀技术第19-21页
    1.5 本文的研究内容第21-22页
第二章 容性耦合等离子体实验装置第22-30页
    2.1 射频容性耦合等离子体装置第22-25页
        2.1.1 等离子体产生装置第22-23页
        2.1.2 静电探针诊断装置第23-25页
    2.2 朗缪尔探针诊断技术第25-28页
        2.2.1 低温等离子体诊断方法的分类第25页
        2.2.2 朗缪尔探针结构第25-26页
        2.2.3 朗缪尔双探针的工作原理第26-28页
        2.2.4 朗缪尔探针使用条件第28页
    2.3 扫描电子显微镜(SEM)第28-29页
    2.4 光刻胶刻蚀速率的计算方法第29-30页
第三章 通孔圆孔极板点亮问题对等离子体空间分布的影响第30-38页
    3.1 通孔圆孔极板结构第30页
    3.2 通孔圆孔点亮问题第30-32页
    3.3 通孔圆孔点亮问题对等离子体空间分布的影响第32-34页
        3.3.1 功率 50W条件下,点亮问题对等离子体空间分布的影响第32-33页
        3.3.2 功率对点亮通孔圆孔等离子体空间分布的影响第33-34页
    3.4 通孔圆孔点亮问题对氧气刻蚀光刻胶的影响第34-36页
    3.5 本章小结第36-38页
第四章 极板类型及配置对氩气容性耦合等离子体的影响第38-50页
    4.1 圆孔刻槽极板第38-41页
        4.1.1 圆孔刻槽极板结构第38页
        4.1.2 功率对圆孔刻槽极板的影响第38-39页
        4.1.3 圆孔刻槽极板对等离子体均匀性的影响第39-41页
    4.2 极性电极第41-46页
        4.2.1 极性电极的结构第41-42页
        4.2.2 功率对极性电极的影响第42-43页
        4.2.3 极性电极对等离子体均匀性的影响第43-46页
    4.3 栅型电极第46-48页
        4.3.1 栅型电极结构及尺寸第46页
        4.3.2 栅型电极对等离子体及其均匀性的影响第46-48页
    4.4 本章小结第48-50页
第五章 极板类型及配置对光刻胶刻蚀的影响第50-54页
    5.1 圆孔刻槽极板第50页
    5.2 极性极板第50-51页
    5.3 栅型电极第51-52页
    5.4 本章小结第52-54页
第六章 结论第54-56页
参考文献第56-61页
硕士期间发表论文第61-62页
致谢第62页

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