| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 前言 | 第11页 |
| 1.2 复合电沉积概述 | 第11-19页 |
| 1.2.1 复合电沉积镀层的制备 | 第12-13页 |
| 1.2.2 复合电沉积的影响因素 | 第13-15页 |
| 1.2.3 复合电沉积机理研究现状 | 第15-17页 |
| 1.2.4 复合电沉积的发展 | 第17-19页 |
| 1.3 超声脉冲复合电沉积的研究 | 第19-21页 |
| 1.4 本课题的研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验材料、设备与方法 | 第22-28页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第22-24页 |
| 2.1.1 实验电极材料 | 第22页 |
| 2.1.2 主要实验仪器设备 | 第22-23页 |
| 2.1.3 主要实验试剂及作用 | 第23-24页 |
| 2.2 电沉积装置 | 第24页 |
| 2.3 电镀工艺 | 第24-26页 |
| 2.3.1 前处理 | 第24-25页 |
| 2.3.2 电镀液配制 | 第25-26页 |
| 2.3.3 后处理 | 第26页 |
| 2.4 复合镀层表征方法 | 第26-28页 |
| 2.4.1 镀层厚度测试 | 第26页 |
| 2.4.2 镀层沉积速率测试 | 第26页 |
| 2.4.3 镀层硬度测试 | 第26页 |
| 2.4.4 镀层结构和形貌测试 | 第26-27页 |
| 2.4.5 复合镀层耐腐蚀性能测试 | 第27-28页 |
| 第三章 脉冲电沉积Ni-W镀层的工艺研究 | 第28-37页 |
| 3.1 电沉积Ni-W镀层电镀溶液组成以及工艺条件 | 第28-29页 |
| 3.2 正交实验法 | 第29-32页 |
| 3.3 电沉积工艺参数对Ni-W镀层性能的影响 | 第32-36页 |
| 3.3.1 电流密度对镀层的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.2 电镀时间对复合镀层性能的影响 | 第34-36页 |
| 3.4 小节 | 第36-37页 |
| 第四章 脉冲电沉积Ni-W/LaCl_3复合镀层的研究 | 第37-44页 |
| 4.1 Ni-W/LaCl_3复合电沉积电镀溶液组成以及工艺条件 | 第37页 |
| 4.2 稀土化合物LaCl_3含量的影响 | 第37-40页 |
| 4.2.1 稀土化合物LaCl_3对复合镀层厚度和沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.2 稀土化合物LaCl_3对复合镀层显微形貌的影响 | 第39-40页 |
| 4.3 最佳稀土含量下复合镀层性能研究 | 第40-43页 |
| 4.3.1 稀土化合物LaCl_3对复合镀层微观形貌的影响 | 第40-41页 |
| 4.3.2 稀土化合物LaCl_3对复合镀层物相的影响 | 第41页 |
| 4.3.3 稀土化合物LaCl_3对复合镀层耐蚀性的影响 | 第41-43页 |
| 4.4 小节 | 第43-44页 |
| 第五章 电沉积Ni-W/Al_2O_3-LaCl_3复合镀层性能研究 | 第44-57页 |
| 5.1 Ni-W/Al_2O_3-LaCl_3复合电沉积电镀溶液组成以及工艺条件 | 第44-45页 |
| 5.2 固体颗粒Al_2O_3含量对Ni-W/Al_2O_3-LaCl_3镀层性能的影响 | 第45-47页 |
| 5.3 Ni-W/LaCl_3-Al_2O_3复合镀层抗高温氧化性能 | 第47-51页 |
| 5.3.1 无添加和添加纳米Al_2O_3复合镀层的高温性能 | 第47-49页 |
| 5.3.2 Ni-W/LaCl_3、Ni-W/LaCl_3-Al_2O_3复合镀层的氧化行为 | 第49-51页 |
| 5.4 高温氧化前后镀层的组织结构 | 第51-52页 |
| 5.5 高温氧化前后镀层表面形貌变化 | 第52-55页 |
| 5.5.1 高温氧化前镀层表面形貌 | 第52页 |
| 5.5.2 高温氧化以后镀层表面形貌 | 第52-55页 |
| 5.6 小节 | 第55-57页 |
| 第六章 多种复合镀层的耐蚀性研究 | 第57-64页 |
| 6.1 复合镀层电化学性能 | 第57-61页 |
| 6.1.1 动电位极化曲线 | 第57-60页 |
| 6.1.2 电化学交流阻抗谱 | 第60-61页 |
| 6.2 多种复合镀层微观形貌 | 第61-62页 |
| 6.3 Ni-W复合镀层在 3.5％NaCl溶液中的腐蚀机理 | 第62-63页 |
| 6.4 小节 | 第63-64页 |
| 第七章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
