宽带脉冲压缩光栅研制：金属—介质膜光栅与后镀膜光栅
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 课题背景 | 第9-11页 |
| 1.2 国内外宽带光栅研究现状 | 第11-20页 |
| 1.2.1 金属-介质膜光栅 | 第11-14页 |
| 1.2.2 后镀膜光栅 | 第14-20页 |
| 1.3 课题的提出和研究内容 | 第20页 |
| 1.3.1 金属-介质膜光栅 | 第20页 |
| 1.3.2 后镀膜光栅 | 第20页 |
| 1.4 论文结构安排 | 第20-21页 |
| 1.5 本章小结 | 第21-22页 |
| 第2章 金属-介质膜光栅研制 | 第22-49页 |
| 2.1 槽形设计参数与容差分析 | 第22-26页 |
| 2.1.1 槽形定义 | 第22页 |
| 2.1.2 光栅设计 | 第22-24页 |
| 2.1.3 容差分析 | 第24-26页 |
| 2.2 光刻胶掩模制作与占宽比修正 | 第26-29页 |
| 2.2.1 光刻胶掩模制作 | 第26-27页 |
| 2.2.2 掩模占宽比的修正 | 第27-29页 |
| 2.3 光栅刻蚀 | 第29-44页 |
| 2.3.1 槽形演变 | 第29-30页 |
| 2.3.2 不同材料的刻蚀速率 | 第30-32页 |
| 2.3.3 刻蚀监测模型 | 第32-37页 |
| 2.3.4 监测光路 | 第37页 |
| 2.3.5 实验结果 | 第37-41页 |
| 2.3.6 刻蚀光栅的清洗 | 第41-44页 |
| 2.4 效率测量与分析 | 第44-47页 |
| 2.4.1 测量方法 | 第44页 |
| 2.4.2 测量结果 | 第44-46页 |
| 2.4.3 结果分析 | 第46-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 后镀膜光栅研制 | 第49-84页 |
| 3.1 概述 | 第49-50页 |
| 3.2 光栅基底制作 | 第50-66页 |
| 3.2.1 基底材料的选择 | 第50-52页 |
| 3.2.2 离子束刻蚀模型 | 第52-65页 |
| 3.2.3 光栅基底制作 | 第65-66页 |
| 3.3 镀膜 | 第66-68页 |
| 3.3.1 镀膜工艺的选择 | 第66-67页 |
| 3.3.2 镀膜后光栅槽形的演变 | 第67-68页 |
| 3.4 光栅槽形演变模型 | 第68-75页 |
| 3.4.1 镀膜后光栅槽形演变规律 | 第68-70页 |
| 3.4.2 光栅槽形演变模型 | 第70-75页 |
| 3.5 后镀膜光栅参数优化 | 第75-81页 |
| 3.5.1 光栅参数优化的数学模型 | 第75-76页 |
| 3.5.2 优化结果 | 第76-77页 |
| 3.5.3 工艺容差分析 | 第77-81页 |
| 3.6 本章小结 | 第81-84页 |
| 第4章 总结与展望 | 第84-88页 |
| 4.1 论文工作总结 | 第84-86页 |
| 4.1.1 金属-介质膜光栅 | 第84-85页 |
| 4.1.2 后镀膜光栅 | 第85-86页 |
| 4.1.3 本论文创新点 | 第86页 |
| 4.2 展望 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-96页 |
| 致谢 | 第96-98页 |
| 附录A 金属-介质膜光栅制作工艺改进 | 第98-106页 |
| A.1 镀铬金属-介质膜光栅掩模的制作 | 第99-100页 |
| A.2 以铬作掩模的金属-介质膜光栅的离子束刻蚀 | 第100-106页 |
| 附录B 后镀膜光栅电镜图像与效率曲线 | 第106-111页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第111页 |
