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AZ31镁合金原位生长耐磨陶瓷膜层研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-19页
   ·课题背景及研究的目的和意义第9-10页
   ·镁合金表面改性技术及其特点第10-14页
     ·传统镁合金表面改性技术第10-13页
     ·镁合金微弧氧化技术第13-14页
   ·镁合金微弧氧化陶瓷膜的摩擦学性能第14-17页
     ·微弧氧化陶瓷膜的耐磨特性第14-16页
     ·微弧氧化陶瓷膜表面磨损形式第16-17页
   ·镁合金微弧氧化陶瓷膜耐磨性能的研究现状第17-18页
   ·本文的主要研究内容第18-19页
第2章 实验材料及研究方法第19-25页
   ·试验材料及化学试剂第19-20页
   ·实验设备第20-21页
     ·微弧氧化实验装置及流程第20页
     ·微弧氧化电源第20-21页
   ·实验方法第21-23页
     ·镁合金微弧氧化的前处理第21-22页
     ·镁合金微弧氧化陶瓷膜的制备第22-23页
   ·测试方法第23-25页
     ·微弧氧化陶瓷膜形貌及组织结构分析方法第23页
     ·微弧氧化陶瓷膜摩擦学性能测试第23-25页
第3章 AZ31 镁合金微弧氧化陶瓷膜的制备和表征第25-41页
   ·微弧氧化电解液体系的筛选及优化第25-30页
     ·硅酸盐体系中各组成物浓度的优化第26-28页
     ·磷酸盐体系中各组成物浓度的优化第28-30页
   ·磷酸盐体系制备微弧氧化陶瓷膜的表征第30-35页
     ·微弧氧化陶瓷膜表面形貌第30页
     ·微弧氧化陶瓷膜结构及其元素分布第30-32页
     ·微弧氧化陶瓷膜相组成第32页
     ·微弧氧化陶瓷膜摩擦磨损性能第32-35页
   ·硅酸盐体系制备微弧氧化陶瓷膜的表征第35-40页
     ·微弧氧化陶瓷膜表面形貌第35-36页
     ·微弧氧化陶瓷膜结构及其元素分布第36-37页
     ·微弧氧化陶瓷膜相组成第37页
     ·微弧氧化陶瓷膜摩擦磨损性能第37-40页
   ·本章小结第40-41页
第4章 微弧氧化工艺参数对膜层结构和性能的影响第41-65页
   ·电流密度对膜层结构和性能的影响第41-47页
     ·电流密度对微弧氧化过程电压的影响第41-42页
     ·电流密度对膜层表面形貌的影响第42-43页
     ·电流密度对膜层截面形貌的影响第43-44页
     ·电流密度对膜层相组成的影响第44页
     ·电流密度对膜层摩擦磨损性能的影响第44-47页
   ·电源频率对膜层结构和性能的影响第47-52页
     ·频率对微弧氧化过程电压的影响第47-48页
     ·频率对膜层表面形貌的影响第48页
     ·频率对膜层截面形貌的影响第48-49页
     ·频率对膜层相组成的影响第49-50页
     ·频率对膜层摩擦磨损性能的影响第50-52页
   ·电源占空比对膜层结构和性能的影响第52-58页
     ·占空比对微弧氧化过程电压的影响第52-53页
     ·占空比对膜层表面形貌的影响第53-54页
     ·占空比对膜层截面形貌的影响第54-55页
     ·占空比对膜层相组成的影响第55-56页
     ·占空比对膜层摩擦磨损性能的影响第56-58页
   ·微弧氧化反应时间对膜层结构和性能的影响第58-64页
     ·氧化时间对膜层表面形貌的影响第58-59页
     ·氧化时间对膜层表面轮廓的影响第59-60页
     ·氧化时间对膜层截面形貌的影响第60-61页
     ·氧化时间对膜层相组成的影响第61-62页
     ·氧化时间对膜层摩擦磨损性能的影响第62-64页
   ·本章小结第64-65页
第5章 掺杂改性对微弧氧化陶瓷膜性能的影响第65-84页
   ·微弧氧化陶瓷膜改性剂的筛选第65-66页
   ·K_2Cr_20_7 掺杂对陶瓷膜结构与性能的影响第66-74页
     ·掺杂对微弧氧化过程电压的影响第66-67页
     ·掺杂对膜层厚度及相组成的影响第67-68页
     ·掺杂对膜层表面形貌及其元素分布的影响第68-69页
     ·掺杂对膜层截面形貌及其元素分布的影响第69-70页
     ·掺杂对膜层摩擦磨损性能的影响第70-74页
   ·Na_2B_40_7 掺杂对陶瓷膜结构与性能的影响第74-83页
     ·掺杂对微弧氧化过程电压的影响第74-75页
     ·掺杂对膜层厚度及相组成的影响第75-76页
     ·掺杂对膜层表面形貌及其元素分布的影响第76-78页
     ·掺杂对膜层截面形貌及其元素分布的影响第78-79页
     ·掺杂对膜层摩擦磨损性能的影响第79-83页
   ·本章小结第83-84页
结论第84-85页
参考文献第85-91页
致谢第91页

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